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Hitec Zang 高壓反應釜和自動化反應系統(tǒng)
閱讀：3382 發(fā)布時間：2021-10-14HiClave 自動化高壓反應系統(tǒng)以模塊化的形式構(gòu)建， 包含高壓反應釜、加熱冷卻系統(tǒng)、磁力攪拌系統(tǒng)、多種形式的氣體、液體給料系統(tǒng)在內(nèi)個多種組件，用于氧化反應、氫化反應、羰基化反應、聚合反應等反應全自動化控制。
1、Hitec Zang 高壓反應釜
Hitec Zang 高壓反應釜，具有以下特點：
ü 10 ml 到 250 ml 的反應器
ü 壓力高達300 bar
ü 溫度高達300 °C
ü 純金屬蓋密封
ü 重量加料
ü 磁力攪拌器或磁耦合的頂部攪拌器
其中100-250ml高壓反應釜，采用螺絲擰緊的法蘭蓋，帶7個接口，其中3個接口在蓋外面易于連接，中心的連接是磁力耦合的攪拌頭。反應釜由不銹鋼或者合金制作，可以通過加熱套加熱，通過冷卻板或者內(nèi)部冷卻回路進行冷卻。攪拌采用磁力攪拌頭，可選40或80Ncm扭矩。
儀器有電加熱套的加熱，磁力攪拌頭的攪拌，溫度控制器。
連接件有：1個攪拌用軸，1根溫度控制的浸入管，1個金屬片，用于最大壓力下的安全限制。1個壓力顯示，1個減壓閥，1個自由支配的，可用于氣體取樣或者液體取樣。
可選項包括：氣體注入模塊，液體或氣體取樣，通過冷卻板或冷卻環(huán)的冷卻，哈氏合金或其他合金。
Hitec Zang 高壓反應釜系統(tǒng)用于高壓下的反應，尤其是多相的反應系統(tǒng)。可采用10-250ml的反應器，max壓力可達300bar或400bar, max溫度可達300或400℃，由于使用純金屬的壓力密封蓋，該系統(tǒng)可實現(xiàn)精確測量氣體的消耗量。多種加熱、冷卻系統(tǒng)、磁力攪拌系統(tǒng)及體積或者重量的氣體或液體給料系統(tǒng) ，都可配備。HiClave 系統(tǒng)可以是單個或者多個平行反應系統(tǒng)，除標準配置外，定制化的設計可滿足客戶多種需求。
加氫反應模塊可實現(xiàn)：
ü 惰性氣體的自動沖洗
ü 自動密封性試驗
ü 用MFC測量氣體消耗量
ü 數(shù)值的記錄
ü 可選獨立使用設備
除高壓平行反應，還有其他類型的平行反應系統(tǒng)，可以實現(xiàn)：
ü 個性化、高動態(tài)的溫控系統(tǒng)
ü 模塊化 & 靈活性
ü 全自動系統(tǒng)
ü 250 , 400 ml
ü 簡便快速處理
自動化平行反應系統(tǒng)的特點：
ü 一個電腦及軟件可控制多個系統(tǒng)
ü 反應器參數(shù)的全自動化控制，如進料速度，溫度、壓力、PH及攪拌等
ü 單個反應器*獨立的操作條件
ü 多種給料方式可選（液體、固體和氣體、重量和體積等）
ü 自動化取樣可選
ü 惰性材料：玻璃、聚四氟乙烯
ü 多個單獨反應器共用一臺冷卻器
ü 方便且快速的處理（更換反應器<1分鐘）
ü 可單獨擴展和升級
ü 24小時無人值守運行
