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本次大會，布魯克光譜將為您介紹材料質量控制解決方案：

• 芯片分裝污染、異物、失效分析

• 顯示器件污染、異物分析

• 電路板異物、失效分析

此外，布魯克光譜提供半導體行業多應用方向的解決方案：

• 常溫、低溫傅立葉變換光致發光系統，紅外低維材料表征：量子點、量子阱、超晶格；

• 聲子光譜、半導體材料帶隙，低維異質結構厚度以及電子特性研究；

• 外延層厚度分析：同質外延，異質外延，單層，多層；

• 紅外光電探測器器件光譜響應表征：光電流譜；

• 紅外發光器件、激光器等電致發光器件中心波長、線寬、帶寬表征：ICL，QCL，VCSEL；

• 工業高純晶體硅質量控制：間隙氧，代位碳，III-V族雜質元素分析；

• 光伏硅晶體質量控制：間隙氧，代位碳，施主，受主元素含量；

• 切割前硅晶棒、硅錠中氧含量軸向分布分析；

• 高純鍺、化合物半導體中雜質元素分析。

儀器展示

LUMOS II 是一款獨立的傅立葉變換紅外顯微鏡，在失效分析、材料研究和顆粒分析方面非常出色。它采用FPA技術，結構緊湊、精確，具有超快的化學成像功能。生產電子產品時要用到各種類型的有機/無機材料。FTIR 光譜是一種通用技術，可為大多數樣品提供有價值的化學信息。因此，FTIR 顯微技術對故障和根本原因分析有很大幫助。

INVENIO非常適用于需要高靈敏度、光譜或時間分辨率、穩定性、靈活性和可升級性的情景，從而改善您在工業或研究應用領域的日常分析體驗。INVENIO可應用在硅晶圓中氧和碳含量測定；亞微米量級至毫米量級外延層層厚無損光學測試、分析；近紅外光譜范圍的光致發光測量等。