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布魯克(北京)科技有限公...

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報名中 | 紅外光譜技術在硅材料質控分析中的應用(英文)

閱讀:389      發布時間:2021-6-17
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會議邀請:

     在許多應用領域,如可再生能源(光伏或氫氣技術)、航空航天和電子領域,半導體(尤其是硅)是不可少的基礎材料。為了保證高效率和產品質量,以雜質的識別和定量、缺陷的檢測或光學器件的功能測試為形式的硅質量控制成為半導體工業中一項關鍵而艱巨的任務。

     該系列網絡研討會分為兩部分,在下周的第二場中,我們將向您介紹使用傅立葉變換紅外光譜進行半導體質量控制的高靈敏度解決方案,歡迎屆時參加。

主題:

High sensitivity Silicon QC using FT-IR Spectroscopy

語言:英文(English)

時間:

第二場:6月21日(周一) 晚上10點-11點

第二場(重播): 6月22日(周二)下午3點-4點

(*以上為北京時間)

會議使用GOTOWEBINAR平臺,由布魯克德國紅外應用專家主講。


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