旋涂是一種廣泛使用且用途廣泛的技術，用于將材料沉積到具有準確且可控的膜厚的基材上，用于微觀或光譜研究。旋涂利用溶液的向心力和表面張力來形成均勻的薄膜，使其比其他薄膜涂層方法更快。旋涂是研究和工業環境中批處理的理想選擇。旋涂廣泛用于使用溶膠-凝膠前驅體在玻璃或單晶基板上對功能性氧化層進行微納加工，可用于制造具有納米級厚度的均勻薄膜。

MRC-實驗室設備

30 多年來，MRC 一直為全球 70 多個國家/地區開發、制造和供應實驗室設備。自 2001 年以來，MRC 質量管理體系已通過 ISO 9001 正式認證，符合質量要求。我們在實驗室產品供應方面的專業知識得到了我們合格且經驗豐富的服務團隊的支持。

種類繁多的實驗室設備

MRC實驗室技術為研發中的眾多應用提供了廣泛的創新設備。MRC 成熟的技術，用于我們專門開發的加熱設備和溫度控制產品，例如用于混合、振蕩、生長、測試和破碎應用的加熱板、循環器、浴槽和冷卻器。MRC還憑借我們創新的振蕩培養箱、烤箱、濕度室、冷卻器、振蕩器、均質機、研磨機、冰箱、旋轉蒸發器、離心機、實驗室天平，在世界市場上獲得了一定的行業地位。

旋涂機

旋涂是一種廣泛使用且用途廣泛的技術，用于將材料沉積到具有準確且可控的膜厚的基材上，用于微觀或光譜研究。旋涂利用溶液的向心力和表面張力來形成均勻的薄膜，使其比其他薄膜涂層方法更快。旋涂是研究和工業環境中批處理的理想選擇。旋涂廣泛用于使用溶膠-凝膠前驅體在玻璃或單晶基板上對功能性氧化層進行微納加工，可用于制造具有納米級厚度的均勻薄膜。

旋涂機如何工作？

在旋涂中，當液體從基材的末端旋轉時，旋轉會繼續，直到達到所需的膜厚。所施加的溶劑通常是揮發性的，并同時蒸發。

MRC提供各種優質的旋涂機供使用。所有旋涂機都是高質量的產品- 查看目錄。

什么是旋涂？

旋涂的方法經常用于表面上做薄涂層。在這種方法中，每當物質和溶劑的溶液高速旋轉時，在向心力和液體表面張力的結合下，就會形成均勻的涂層。通過旋涂，在剩余的溶劑蒸發后產生大約幾納米和幾微米厚的薄層。

旋涂被廣泛使用，并有多種用途。該工藝可用于覆蓋小至幾平方毫米的表面，直至直徑為一米或更大的平板顯示器。

與其他方法相比，旋涂的主要優點是它能夠快速輕松地制造均勻的涂層。該技術用于多個業務和技術領域。

工作原理分為幾個步驟：

1. 沉積：使用移液管將基質澆注到溶液上。離心運動將溶液分布在整個基材中，盡管基材處于動態或靜態旋涂中。

2. 旋轉：在以較低速度或快速展開步驟后，基板達到適當的旋轉速度。在此階段，大部分溶液現在從基材中排出。一旦阻力平衡旋轉加速度并導致旋轉速度匹配，流體就會變得水平。

3. 衍生：現在粘性力占主導地位，流體開始變稀。由于干涉效應，通常，當液體被甩掉時，薄膜的顏色會發生變化。顏色停止后，薄膜幾乎干燥。

4. 蒸發：流體流出停止后，發生溶劑蒸發。揮發性、蒸氣壓和環境條件是溶劑蒸發速率所依賴的幾個因素。

旋涂的用途：

它用于涂覆具有以下特征的表面：

- 合成金屬

- 納米材料

- 有機半導體

- 光敏電阻

-絕緣 子

- 金屬和金屬氧化物前驅體

- 透明導電氧化物

其他幾種物質也用于旋涂。

旋涂技術的類型：

1. 動態點膠旋涂技術：在應用過程中，使用移液器使用動態點膠旋涂布來分配一致數量的涂層。物體旋轉，直到達到必要的轉速。然后盡可能靠近基材中心施加整個涂層。速度和離心力有助于保證旋涂的一致性。通過此程序，可以同時涂覆整個涂層。

2. 靜態點膠旋涂技術：一般來說，特殊情況下需要將紡絲速度降低到動態點膠旋涂方法所需的速度以下。在開始紡絲過程之前，應使用此程序將整個涂層基材涂覆到所需的材料上。在將涂層涂覆到材料上后，紡絲過程開始，通常比動態點膠方法慢。

電源電壓AC220V，50Hz
轉速0~10000rpm 加速度100~5000rpm/s
速度分辨率1rpm
單步時間3000s
基板尺寸直徑≤ 8英寸（200mm
）
腔體材料亞克力
操作方法7英寸高清液晶觸摸屏
點膠方式手動點膠，可選配精密注射泵
涂布曲線每條曲線5段，共可存儲
5條曲線抽氣口Φ8mm快速螺絲接口
外形尺寸290mm×365mm×260mm
總重量12kg
真空泵干式機械泵
抽速1.1L/s
電源AC220V 50/60Hz