各種鍍膜技術都需要有一個蒸發源或靶子，以便把蒸發制膜的材料轉化成氣體。由于源或靶的不斷改進，大大擴大了制膜材料的選用范圍，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機物質，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質膜，而且還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。

    以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。

簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法即為真空鍍膜。

     真空鍍膜時，真空度一般在10的負3次方左右，真空度大小是真空鍍膜時必須嚴格要求的指標之一，它對鍍膜產品的顏色、耐磨性、牢固度有直接的關系，通常鍍膜時加少許氣體，還有通過對電弧電源的控制增加母材在真空室的離化率，還可通過磁場控制電弧等以改變產品的外觀和內在品質。

    主要還是對鍍膜工藝的影響，無論什么鍍膜方式，真空度越高亦代表爐內所含的雜氣原子越少，這樣鍍膜膜層成分就更趨近于你想要的比例，簡單的說就是純度及結晶狀態更可控。

    同時，對于鍍膜來說，加熱基本是必須的，較高的真空度可以防止基材表面氧化或氮化，對結合力有很大的幫助。

    真空如果太低的話鍍出來的產品會發黑，時間一長還會發黃，一般情況下抽到5.0-2就可以了，如果產品要求很高的話 就要抽到2.0-2了，當然產品要求不高的話抽到-2也可以蒸發的，我所說的說是蒸發鍍！

真空鍍膜--可見真空度對真空鍍膜的影響

    真空度的高低就決定了你產品的合格與否，如果是裝飾性鍍膜，真空度的差別，直接導致的是顏色不一樣

    如果是功能性薄膜，那么就是你做出的產品附著力，光學性能等等的各項指標出現偏差。