作為同類中超前的3D打印系統

Quantum X shape 可打印任何形狀，最小尺寸可達100nm同時表面粗造度(Ra)小于5nm，最大面積可達25 cm

具備自動滴膠模組功能的打印系統，過夜效率可達200個特征結構。

通用高性能雙光子聚合材料，適用高分子及玻璃打印。

Reshaping precision.

作為已被工業界認可的Nanoscribe公司推出的Quantum X平臺的二代加工系統，Quantum X shape雙光子無掩膜光刻系統在3D微納加工領域擁有驚人的高精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結構應用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL ®)。全新的Quantum X shape的高精度有賴于其最高能力的體素調制比和超精細處理網格，從而實現亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調，該系統在表面微結構的制作上可達到超光滑，同時保持高精度的形狀控制。

Reshaping output.

Quantum X shape雙光子無掩膜光刻系統不僅是應用于生物醫學、微光學、MEMS、微流道、表面工程學及其他很多領域中器件的快速原型制作的理想工具，同時也成為基于晶圓的小結構單元的批量生產的簡易工具。

Reshaping usability.

通過系統集成觸控屏控制打印文件來大大提高實用性。通過系統自帶的nanoConnectX軟件來進行打印文件的遠程監控及多用戶的使用配置，實現推動工業標準化及基于晶圓批量效率生產。

主要特征：

* 納米尺度打?。涸谌我饪臻g方向上的特征尺度控制，可達100nm

* 超快體素控制和100nm處理網格的高速3D微納加工

* 振鏡軌道控制保證的最快掃描速度下的軌跡準確度

* 自動化自校準路徑保證的高精度激光能量控制及定位

* 可達6英寸基片和硅片的廣泛選擇

* 工業化批量生產： 200個標準介觀尺度結構通宵產量

* 保證實用性和體驗感的觸控屏和遠程控制功能

* 快速原型制作，高精度，高設計自由度，簡易明了的工作流程

* 工業驗證的晶圓級批量生產

* 通用及專用的打印材料

* 兼容自主及第三方打印材料