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深圳市普索進出口貿易有限公司

當前位置:深圳市普索進出口貿易有限公司>>N>>NADELLA>>LiTaO3LT和LN晶圓Nano Quatz Wafer

LT和LN晶圓Nano Quatz Wafer

參   考   價:面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號:LiTaO3

品       牌:其他品牌

廠商性質:代理商

所  在  地:深圳市

更新時間:2021-11-11 18:01:49瀏覽次數:1165

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應用領域 醫療衛生,生物產業,地礦
LT和LN晶圓Nano Quatz Wafer
SAW 器件的基本原理是從電信號中產生彈性表面波并進行再轉換。基板材料是壓電晶體,如石英 (SiO2)、鉭酸鋰 (LiTaO3) 或鈮酸鋰 (LiNbO3)。

LT和LN晶圓Nano Quatz Wafer

普索貿易

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LT和LN晶圓Nano Quatz Wafer

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鈮酸鋰和鉭酸鋰晶片

SAW 器件的基本原理是從電信號中產生彈性表面波并進行再轉換。基板材料是壓電晶體,如石英 (SiO2)、鉭酸鋰 (LiTaO3) 或鈮酸鋰 (LiNbO3)。這是單晶材料,在生長過程后切割成晶片的確定方向。NQW 為 SAW 制造和研發中心生產了這種晶片

LT /LN 材料

LT 鉭酸鋰 (LiTaO3)、LN 鈮酸鋰 (LiNbO3)

LT:典型切割 X112°Y/36°Y/42°Y/48°Y/ Z-cut

LN:典型切削 128°Y/64°Y /41°Y /Y / Z-cut

SAW/光學級,LN 黑色(無熱電效應)

MgO摻雜LN晶圓

晶圓應用

SAW器件特別用于手機中作為介質濾波器、帶通濾波器、射頻濾波器和中頻濾波器

寬帶濾波器包括雷達技術

家用電子產品遙控器

尺寸和厚度

圓形晶圓 4" 至 8"

方形晶圓 10x10mm 至 100x100mm

厚度 250µm、350µm、500µm、1000µm

半扁平,邊緣 C 形

TTV <10µm(標準)到 <5µm(高級?)

弓形 +/-40µm , 翹曲 <40µm

表面和質量

表面處理:單/雙面拋光、研磨、研磨

LTV≤0.4um EE 3mm, 5x5mm區域內,適用于PLTV > 98%工作區域

拋光 Ra<1nm(標準)高達 <0.5nm(CMP)

研磨 Ra 0.1µm 至 0.5µm

玻璃晶圓


玻璃晶圓是現代微系統技術的基礎。它特別用于半導體行業。一個常見的應用是薄硅膜片或傳感器的機械穩定性,以及用于 MEMS 的蝕刻結構掩模。

玻璃晶圓基板是液晶面板和OLED基板的基本組成部分,晶圓質量影響良率。來自主要制造商的所有等級和規格的 NQW 材料。NQW 提供的所有玻璃材料均經過制造商認證。

玻璃材質

肖特:Borofloatt33、MEMPax、AF32、AF37、B270、N-BK7、光學玻璃

康寧:ULE 玻璃、Eagle XG、光學玻璃

其他定制

晶圓應用

這種材料廣泛應用于半導體、醫學、通信、激光、紅外、電子、測量儀器、軍事和航空航天。

尺寸和厚度

圓片 5mm 至 400mm

方形晶圓 4x4mm 至 1000x500mm

厚度 100µm 至 10000µm

TTV <10µm(標準)高達 <5µm(高級)

弓形 +/-40µm , 翹曲 <40µm

半平、缺口或無截止

邊緣:C 形,斜面,切邊

表面和質量

表面處理:單/雙面拋光、研磨、研磨

S/D-質量 60/40(標準)高達 10/5(高級),

拋光 Ra<1nm(標準)高達 <0.5nm(CMP)

研磨 Ra 0,1µm 至 2,0µm

不同顏色的高對比度激光標記


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