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HELOS/KR-Vario是該儀器系列中靈活的模型版本,為顆粒尺寸提供了特殊的應用可能性。它在0.1m到8750米的測量范圍內集成了8個光學模塊中的7個。
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更新時間:2019-04-16 13:27:03瀏覽次數:504
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開放的測量區可以變寬到幾米,支持光學測量系統靈活地適應個別客戶的要求,以挑戰實驗室或試點工廠的技術應用 因此,它可用于農業噴霧或復雜裝置的顆粒分析,用于風洞中的現場測量 測量范圍為0.1米至8 750米 有標準輪廓的123毫米至1 400毫米的可變測量區 可自由安排測量超過1,400毫米的區域 與所有螺旋分散系統相結合的模塊化設計 用于實驗室 試驗場 風洞 工藝線的粒度分析
公司經營品牌:GE druck, GE Panametrics,GE Bently,Wika,HBM,Tektronix,BEAMEX,SIKA,E+E,美國華瑞RAE,梅思安MSA,德爾格Draeger,德國IKA,美國奧豪斯,美國哈希hach,安捷倫等品牌,派克Parker,阿托Atos,力士樂Rexroth,哈威Hawe,德國KK,英國Time Electronics,美國斯坦福,英國密其,德國LR-Cal,德國Schleich,澳大利TPS,德國卡爾德意志等進口品牌