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目錄:深圳喬邦儀器有限公司>>電鍍鍍層膜厚分析儀>> 光學膜厚XD-1000測試儀

光學膜厚XD-1000測試儀
  • 光學膜厚XD-1000測試儀
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更新時間:2024-04-28 12:22:34瀏覽次數:1326評價

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產地類別 國產 價格區間 面議
應用領域 醫療衛生,化工,生物產業,電子/電池,包裝/造紙/印刷
光學膜厚XD-1000測試儀是專門針對鍍層厚度測量而精心設計的一款新型儀器。主要應用于:金屬鍍層的厚度測量、電鍍液和鍍層含量的測定;黃金、鉑、銀等貴金屬和各種首飾的含量檢測。

應用領域 

 

光學膜厚測試儀測量線路板工業中 Au/Ni/Cu/PCB 或 Sn/Cu/PCB中的鍍層

電子行業中接插件和觸點上的鍍層

裝飾性鍍層Cr/Ni/Cu/ABS

電鍍鍍層,如大規模生產零件(螺栓和螺母)上的防腐蝕保護層Zn/Fe,ZnNi/Fe

測量電鍍液中金屬成分含量

黃金,鉑,銀等貴金屬和各種首飾的含量檢測.

金屬鍍層的厚度測量, 電鍍液和鍍層含量的測定。

光學膜厚測試儀主要用于貴金屬加工和首飾加工行業;銀行,首飾銷售和檢測機構;LED照明、五金工具、半導體、電鍍企業等。

 

光學膜厚XD-1000測試儀性能優勢

 

1.光學膜厚測試儀精密的三維移動平臺 

2.的樣品觀測系統 

3.*圖像識別 

4.輕松實現深槽樣品的檢測 

5.四種微孔聚焦準直器,自動切換 

6.雙重保護措施,實現無縫防撞 

7.采用大面積高分辨率探測器,有效降低檢出限,提高測試精度 

全自動智能控制方式,一鍵式操作!

開機自動自檢、復位; 

開蓋自動退出樣品臺,升起Z軸測試平臺,方便放樣; 

關蓋推進樣品臺,下降Z軸測試平臺并自動完成對焦; 

直接點擊全景或局部景圖像選取測試點; 

點擊軟件界面測試按鈕,自動完成測試并顯示結果。

 

光學膜厚XD-1000測試儀技術指標

 

光學膜厚測試儀分析元素范圍:硫(S)~鈾(U) 

同時檢測元素:多24個元素,多達5層鍍層 

檢出限:可達2ppm,薄可測試0.005μm

分析含量:一般為2ppm到99.9% 

鍍層厚度:一般在50μm以內(每種材料有所不同) 

重復性:可達0.1%

穩定性:可達0.1%

SDD探測器:分辨率低至135eV

*微孔準直技術:小孔徑達0.1mm,小光斑達0.1mm

樣品觀察:配備全景和局部兩個工業高清攝像頭 

準直器:0.3×0.05mm、Ф0.1mm、Ф0.2mm與Ф0.3mm四種準直器組合 

儀器尺寸:690(W)x 575(D)x 660(H)mm

樣品室尺寸:520(W)x 395(D)x150(H)mm

樣品臺尺寸:393(W)x 258 (D)mm

X/Y/Z平臺移動速度:額定速度200mm/s 速度333.3mm/s

X/Y/Z平臺重復定位精度:小于0.1um

操作環境濕度:≤90%

操作環境溫度:15℃~30℃ 


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