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廣州貝拓科學(xué)技術(shù)有限公司

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[供應(yīng)]Delta-薄膜光澤度儀返回列表頁(yè)

貨物所在地：廣東廣州市

更新時(shí)間：2025-01-24 21:00:06

有效期：2025年1月24日 -- 2025年7月24日

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產(chǎn)品分類(lèi)品牌

代理產(chǎn)品: 顯微操作儀核磁共振（NMR）原子吸收光譜（AAS）儀器鑒定用標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì) 切片機(jī) 納米壓痕儀、劃痕儀恒溫/加熱/干燥樣品前處理

納米粒度儀: 納米粒度儀DLS 90

接觸角測(cè)量?jī)x: 高溫接觸角測(cè)量?jī)x 表面接觸角測(cè)試儀接觸角測(cè)量?jī)x 國(guó)產(chǎn)接觸角接觸角經(jīng)濟(jì)型光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)xALPHA 動(dòng)態(tài)接觸角測(cè)量?jī)x 靜態(tài)水接觸角光學(xué)接觸角水滴角測(cè)試儀自動(dòng)型接觸角分析儀

膜厚儀: 白光干涉測(cè)厚儀

表面張力儀: 全自動(dòng)表面張力儀

光譜部件及外設(shè): 光纖光譜儀

拉曼光譜儀: 顯微共聚焦拉曼光譜儀進(jìn)口拉曼光譜儀手持拉曼光譜儀便攜式拉曼儀器 CVRam顯微拉曼光譜儀 WITec RISE拉曼-掃描電鏡聯(lián)用系統(tǒng)

差示/熱重/差熱/熱分析: 熱機(jī)械分析儀TMA7000系列熱重-差熱同步分析儀-日立-STA7200

紅外光譜（IR、傅立葉）: PerkinElmer 紅外光譜儀 Spectrum Two 400/400N 傅里葉變換紅外/近紅外成像系統(tǒng)

掃描探針顯微鏡/原子力: 高速共聚焦成像儀

激光粒度儀、納米粒度儀: 界達(dá)電位粒徑量測(cè)儀ELSZ-2000ZS Microtrac S3500SI圖像激光粒度分析儀 Microtrac S3500系列激光粒度分析儀 EKO DisperSizer DS-1 粒度分布分析器

低溫恒溫器: 牛津儀器光學(xué)恒溫器牛津儀器無(wú)液氦光譜學(xué)恒溫器Optistat Dry

熒光分光光度計(jì)（分子熒光: 天美熒光分光光度計(jì) FL970 絕對(duì)量子效率測(cè)量系統(tǒng)Quantaurus-QY PF7/5/3系列原子熒光光度計(jì) 絕對(duì)量子效率測(cè)量系統(tǒng)

X射線(xiàn)衍射儀（XRD）: BRAGG系列X射線(xiàn)衍射儀 XD-2/XD-3/XD-6自動(dòng)X射線(xiàn)粉末衍射儀 PROTO AXRD Theta/Theta X射線(xiàn)衍射儀 PROTO AXRD 臺(tái)式X-射線(xiàn)衍射儀海鷗- DRON-7（M）通用X射線(xiàn)晶體衍射儀普析通用 XD6多晶衍射儀普析通用 XD2/3系列多晶衍射儀

激光光散射儀: 三維光散射儀LS 3D-DLS 一體式廣角靜態(tài)動(dòng)態(tài)同步激光散射儀

掃描電鏡（SEM）: 原子力顯微鏡一體機(jī) FEG系列” 場(chǎng)發(fā)射環(huán)境掃描電子顯微鏡 FEI “Quanta系列”環(huán)境掃描電子顯微鏡” FEI “Q系列”掃描電子顯微鏡賽可 3200M 經(jīng)濟(jì)型臺(tái)式掃描電鏡

電化學(xué)工作站: 多通道電化學(xué)工作站單通道電化學(xué)工作站

X熒光光譜XRF能量色散型: X射線(xiàn)熒光光譜儀

分析儀器-光譜: 顯微角分辨光譜儀紫外可見(jiàn)分光光度計(jì)

透反射率測(cè)量?jī)x: 透反射率測(cè)量?jī)xRT100

等離子清洗機(jī): 真空等離子清洗機(jī) 大氣常壓等離子清洗機(jī)

光學(xué)顯微鏡: 位移臺(tái) 熒光顯微鏡金相顯微鏡體視顯微鏡

力學(xué)測(cè)試儀: 水平力學(xué)試驗(yàn)機(jī) 扭矩試驗(yàn)機(jī) 萬(wàn)能材料試驗(yàn)機(jī)

表面/界面性能測(cè)定儀: 粉末潤(rùn)濕性分析儀

全部產(chǎn)品列表

供應(yīng)簡(jiǎn)介

薄膜光澤度儀利用薄膜干涉光學(xué)原理，對(duì)薄膜進(jìn)行厚度測(cè)量及分析。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面，探頭同位接收反射光線(xiàn)。Delta根據(jù)反射回來(lái)的干涉光，用反復(fù)校準(zhǔn)的算法快速反演計(jì)算出薄膜的厚度。測(cè)量范圍1nm-3mm，可同時(shí)完成多層膜厚的測(cè)試。對(duì)于100nm以上的薄膜，還可以測(cè)量n和k值。

薄膜光澤度儀產(chǎn)品特點(diǎn)

快速、準(zhǔn)確、無(wú)損、靈活、易用、性?xún)r(jià)比高

薄膜光澤度儀應(yīng)用案例

應(yīng)用領(lǐng)域

半導(dǎo)體（SiO2/SiNx、光刻膠、MEMS，SOI等） LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亞酰胺ITO等)

LED (SiO2、光刻膠ITO等）觸摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率測(cè)試等)

汽車(chē)(防霧層、Hard Coating DLC等）醫(yī)學(xué)（聚對(duì)二甲苯涂層球囊/導(dǎo)尿管壁厚藥膜等）

技術(shù)參數(shù)

型號(hào)	TF200-VIS	TF200-EXR	TF200-DUV	TF200-XNIR
波長(zhǎng)范圍	380-1050nm	380-1700nm	190-1100nm	900-1700nm
厚度范圍	50nm-40um	50nm-300um	1nm-30um	10um-3mm
準(zhǔn)確度¹	2nm	2nm	1nm	10nm
精度	0.2nm	0.2nm	0.2nm	3nm
入射角	90°	90°	90°	90°
樣品材料	透明或半透明	透明或半透明	透明或半透明	透明或半透明
測(cè)量模式	反射/透射	反射/透射	反射/透射	反射/透射
光斑尺寸²	2mm	2mm	2mm	2mm
是否能在線(xiàn)	是	是	是	是
掃描選擇	XY可選	XY可選	XY可選	XY可選

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