目錄:深圳市科晶智達科技有限公司>>薄膜制備設備>>等離子鍍膜設備>> GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 電氣 |
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GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據二極（DC）直流濺射原理設計而成的最-簡單、可靠、
經濟的鍍膜設備，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非導體材料實驗電極的制作。
| 功能特點 |
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設有真空表、濺射電流表，可實時監控工作狀態。
通過調節濺射電流控制器、微型真空氣閥，控制真空室壓強、電離電流及選擇所需要的電離氣體，
以獲得最佳鍍膜效果。
鐘罩邊緣橡膠密封圈采用特殊設計，可保證長期使用不出現玻璃鐘罩崩邊現象。
陶瓷密封高壓電極接頭比通常采用的橡膠密封更經久耐用。
根據電場中氣體電離特性，采用大容量濺射真空室和相應面積濺射靶，使濺射鍍層更均勻純凈。
濺射頭采用Peltier制冷技術，可得到高性能、精細顆粒的涂層。
可用水冷濺射頭、水冷載物臺。
| 技術參數 | |||
|---|---|---|---|
| 安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 | ||
| 水 | 設備需選配自循環冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） | ||
| 電 | AC220V 50Hz，必須有良好接地 | ||
| 氣 | 設備腔室內需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（帶減壓閥） | ||
| 工作臺 | 尺寸600mm×600mm×700mm，承重50kg以上 | ||
| 通風裝置 | 不需要 | ||
| 靶 | ?50mm | ||
| 真空室 | ?160mm×120mm | ||
| 最高真空度 | ≤4×10-2mbar | ||
| 最大電流 | 50mA（100mA） | ||
| 可設定最長時間 | 9999s | ||
| 微型真空氣閥 | 連接?3mm軟管 | ||
| 最高電壓 | 1600V DC | ||
| 機械泵 | 2L/s | ||
| 尺寸 | 360mm×300mm×380mm | ||
| 可選配件 | 金、銦、銀、鉑等各種靶材 | ||
| 標準配件 | 1 | 金靶材 | 1個 |
| 2 | 進氣針閥 | 1個 | |
| 3 | 保險絲 | 2個 | |
GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀
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