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便攜式投影型紋影儀可用來觀察透明介質因各種因素引起的擾動的分布、傳播過程以及擾動強度等。如研究激光與物質作用、分層流、多項流、傳熱與傳質、激波、超聲速流、燃燒、火焰、爆炸、等離子體、內彈道及某些化學反應等學科的流場密度變化科學研究。如研究激光與物質作用、分層流、多項流、傳熱與傳質、激波、超聲速流、燃燒、火焰、爆炸、等離子體、內彈道及某些化學反應等學科的流場密度變化科學研究。泰普勒紋影儀是傳統、使用*的一種。

技術參數：

其中主反射鏡光學材料：K9光學玻璃，應力≤2，加工面型精度＜1/10λ；反射面真空鍍鋁，鍍二氧化硅保護膜。小反射鏡表面真空鍍鋁，鍍二氧化硅保護膜，反射系數≥90%，面型精度＜1/10波長。

該系統主要的光機部件主要可以分為：光源狹縫系統、主球面反射鏡裝調機構、刀口成像系統三個部分。其中，光源狹縫系統和其中一塊主球面反射鏡組成準直系統，刀口成像系統與其中一塊主球面反射鏡組成紋影觀視系統，分別布局于兩個平臺上。

紋影法，又稱紋影技術，包括黑、白紋影法，彩色紋影法和干涉紋影法，是用紋影系統進行流場顯示和測量的常用的光學方法。紋影法首先由Toepler于1864年提出，并應用在光學玻璃折射率的檢測中。

1952年 ，Holde和Norht在紋影系統上使用白光的分光棱鏡 ，實現了彩色紋影成象，擴大了紋影技術的應用范圍；1962年，Bland和pelick用紋影法研究了水的壓力和溫度效應后指出，紋影法實用于水洞 的流場顯示；1974年 ，Merzkirch對可壓縮流場中的紋影技術進行了分類，把涉及到在紋影系統上進行的干涉紋影法的研究 ，包括光柵干涉、棱鏡干涉以及Moire條紋干涉等 ，均歸類于紋影技術,并得到國內同行的認可。