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制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調整,可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精確路線折回,并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精確控制。
對刻劃要有一系列的測試,對光柵的效率,刻線外形和雜散光要進行檢查。每次測試后,可能需要一個小的機械調整。為了優化刻線外形以達到特定的光學特性,可能需要一周或者更長時間進行重復測試。經過測試后,才能在一塊大的基板上刻劃原始光柵。原始光柵非常昂貴,所以在復制光柵開發出來之前,光柵只能有限使用。
聯合光科提供聯合光科提供多種尺寸及刻線數的平面平面刻線衍射光柵(Ruled Diffraction Gratings),如您有任何問題或需求,都可以聯系我們,我們將竭誠為您服務。
注意事項:
光柵的表面極易損壞,故拿取時只能接觸邊緣;最好佩戴乳膠手套或指套來防止手指上的臟污接觸光柵表面;光柵上的灰塵不能用接觸式的方法去清潔;光柵表面可能會存在不影響性能的輕微表面瑕疵,而該光柵仍是合格品。
平面刻線衍射光柵:
光柵基片材料浮法玻璃
表面光潔度60-40
尺寸公差±0.5mm
厚度公差±0.5mm
效率60%-80%@閃耀波長
有效孔徑90%
損傷閾值350mJ/cm2@200ns脈沖激光40W/cm2連續激光
光譜曲線: