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顯微鏡-ECLIPSE Ti2 成像系統

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更新時間:2025-05-15 16:57:29瀏覽次數:917次

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產地類別 進口 應用領域 綜合
日本尼康顯微鏡-ECLIPSE Ti2 成像系統實現了*的25mm視野(FOV),*改變您的觀察方式。憑借突破性的大視野,Ti2可以隨心所欲地利用大靶面CMOS相機的傳感器區域,并顯著提高了數據采集量。結合尼康強大的圖像采集和分析軟件NIS-Elements,Ti2當之無愧為成像領域的革新。

ECLIPSE Ti2 成像系統

ECLIPSE Ti2實現了*的25mm視野(FOV),*改變您的觀察方式。憑借突破性的大視野,Ti2可以隨心所欲地利用大靶面CMOS相機的傳感器區域,并顯著提高了數據采集量。

為超高分辨率成像系統量身打造的Ti2載物臺表現極其穩定、毫無偏移,同時其*的硬件觸發功能可以輕松駕馭嚴苛的高速成像實驗。Ti2*的智能模塊可收集內部傳感器數據,引導用戶完成成像流程,杜絕誤操作。此外,在數據采集期間,將自動記錄各個傳感器的狀態,終實現高質量成像,提高數據重現性。

結合尼康強大的圖像采集和分析軟件NIS-Elements,Ti2當之無愧為成像領域的革新。


| 突破性大視野

隨著研究趨勢朝著大規模、系統級方式發展,市場對于更快數據采集、更高通量的能力的需求與日俱增。大靶面相機傳感器的發展和電腦數據處理能力的提高推動了這樣的研究趨勢。憑借*的25mm視野,Ti2提供更高級別的可量測性,令研究人員真正大限度地發揮大靶面檢測器的作用,確保其核心成像平臺在相機技術不斷快速發展的情況下適應未來需求。


| 大視野的明場照明

高功率LED 在Ti2的大視野內提供明亮的照明,確保在高倍率微分干涉差(DIC)等嚴苛要求下帶來清晰、*的結果。采用復眼透鏡設計,Ti2能夠提供從一邊到另一邊的均勻照明。這對于定量的高速成像和大圖拼接都大有裨益。


| 大直徑的觀察光路

觀察光路直徑的擴大,使得成像端口可以做到視場數25。由此得到的大視野能夠拍攝大約傳統透鏡兩倍的區域,使得用戶可以充分發揮諸如CMOS檢測器這樣的大靶面傳感器的性能。


| 用于大視場成像的物鏡

具有圖像平場性的物鏡確保了從一邊到另一邊的高質量圖像。充分發揮OFN25物鏡的大潛力,可以大大加速數據的采集過程。


| 用于高通量數據采集的相機

高靈敏度單色相機DS-Qi2和高速彩色相機DS-Ri2擁有36.0 x 23.9 mm 尺寸、1625萬像素的CMOS傳感器,能夠充分發揮Ti2 25mm大視野的性能。


針對顯微鏡優化的D-SLR相機技術


| 的尼康光學器件

尼康的高精度CFI60無限遠光學器件專為各種復雜觀察方法而設計, 憑借的光學性能和堅實的可靠性受到研究人員的廣泛好評。

| 切趾相差

尼康*的切趾相差物鏡采用精選的振幅濾波器,能夠顯著增強反差并減少光暈假象, 從而提供精細的高清圖像。


| 外部相差(Ti2-E)

電動外部相差系統通過避免使用相差物鏡,使用戶將相差與落射熒光成像相結合,同時不影響熒光的效率。例如,高數值孔徑(NA)的液浸物鏡可被用于相差成像。通過這個外部相差系統,用戶可以輕易結合相差和其他的成像模式,包括弱熒光成像,例如TIRF 和光鑷。



落射熒光和外部相差圖像:
以GFP-alpha微管蛋白標記的PTK-1細胞,使用CFI Apo TIRF 100x Oil物鏡拍攝照片由Wadsworth Center博士科學研究員VI/教授Alexey Khodjakov提供

| DIC(微分干涉差)

尼康備受贊譽的DIC光學器件在各個放大倍數下都可以提供均勻、精細、高分辨率和對比度的圖像。DIC棱鏡是專門針對各個物鏡定制的, 能夠為每個標本提供高品質的DIC圖像。


| 自動校正環(Ti2-E)

標本厚度、蓋玻片厚度、標本折射率分布及溫度上的變化都可能導致球差和圖像扭曲。高質量的物鏡經常配置調節環來補償這些變化。而校正環的準確調節是獲取高分辨率和高對比度圖像的關鍵。這款全新的自動校正環通過采用諧波驅動和自動校正算法,幫助用戶每次都能輕易地調到位置,進而發揮出物鏡的性能。

| 落射熒光

λ系列物鏡采用了尼康獲得的納米水晶鍍膜技術(Nano Crystal Coat),使得它是高要求、弱信號、多通道熒光成像的理想選擇。因為這些應用都要求系統在很寬的波長范圍內保持高的傳輸效率和像差校準。新的熒光濾塊的熒光透過率更高,并且有諸如噪聲消除(Noise Terminator)這樣的雜散光消除技術。配合這樣的熒光濾塊,λ系列物鏡已經證明其在弱熒光觀察領域的能力,包括單分子成像和基于冷光的應用。


| *對焦

即使是溫度的輕微變化和成像環境的輕微振動, 也可能大大影響焦面穩定性。Ti2采用靜態和動態措施消除焦面偏移,從而在長時實驗中能夠真實呈現納觀和微觀景象。

| 機械再設計, 實現超高穩定性(Ti2-E)

為提高對焦穩定性,電動Z軸和*對焦系統(PFS)的自動調焦結構經過*的重新設計。全新的Z軸調焦結構尺寸更小,并且緊鄰物鏡轉盤,以大程度地減少振動。即使在擴展(雙層光路)配置中,它也緊鄰物鏡轉盤,確保在所有應用中均具有出色的穩定性。


即使在擴展配置中,具有高穩定性的Z軸調焦結構也緊鄰物鏡轉盤

*對焦系統(PFS)的檢測器部分已經從物鏡轉盤分離,以減少物鏡轉盤上的機械負載。這種全新的設計還能大程度減少熱傳遞,有助于創造更加穩定的成像環境。因此,電動Z 軸電機的耗電量也有所降低。這些機械上的重新設計賦予成像平臺*的穩定性,使其非常適合單分子成像和超高分辨率應用。


| 采用PFS 的新一代自動調焦結構:堪稱*(Ti2-E)

新一代的*對焦系統(PFS)能夠自動修正溫度變化和機械振動帶來的焦點漂移(往往向標本添加試劑和多點成像時會引入此類干擾)。

PFS 實時檢測并跟蹤參考面的位置(例如使用浸液物鏡時的蓋玻片表面),從而保持焦面。*的光學補償技術允許用戶在參考面的任意相對位置保持焦面。用戶可以直接對焦所需平面,然后啟用PFS。PFS通過內置線性編碼器和高速反饋機制自動工作,并保持焦面,即使在長時、復雜的成像任務中亦能提供高度可靠的圖像。

PFS兼容各種應用,從塑料培養皿的常規實驗到單分子成像和多光子成像均可適用。它還兼容各種波長,從紫外線到紅外線,這意味著它能夠用于多光子和光鑷應用。





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