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目錄:束蘊儀器（上海）有限公司>>同位素質譜儀>> PHI ADEPT010動態二次離子質譜儀D-SIMS|束蘊儀器

動態二次離子質譜儀D-SIMS|束蘊儀器
  • 動態二次離子質譜儀D-SIMS|束蘊儀器
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具體成交價以合同協議為準
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  • 品牌
  • 型號 PHI ADEPT010
  • 廠商性質 代理商
  • 所在地 上海市
屬性

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更新時間：2025-04-30 08:32:33瀏覽次數：1053評價

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ADEPT-1010 專為淺層半導體注入和絕緣薄膜的自動分析而設計，是大 多數半導體開發和支持實驗室的常用工具。通過優化的二次離子收集光學系統 和超高真空設計，提供了薄膜結構檢測中的摻雜組分和常見雜質所需的靈敏度。
　　動態二次離子質譜儀(Dynamic Secondary Ion Mass Spectrometry，簡稱D-SIMS)是一種用于固體材料成分分析的高靈敏度表面分析技術。
 
　　ADEPT-1010 專為淺層半導體注入和絕緣薄膜的自動分析而設計，是大 多數半導體開發和支持實驗室的常用工具。通過優化的二次離子收集光學系統 和超高真空設計，提供了薄膜結構檢測中的摻雜組分和常見雜質所需的靈敏度。
 
　　工作原理：
 
　　動態二次離子質譜儀通過使用聚焦的高能量一次離子束(如O??、Cs?、Ar?等)轟擊樣品表面，使樣品表面的原子或分子被濺射出來。在這個過程中，部分濺射出的粒子會帶電，形成二次離子。這些二次離子被收集并傳輸到質譜儀中進行分析，通過質譜分析可以確定樣品的化學組成和元素分布。
 

動態二次離子質譜儀

 

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