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SEM高速刻蝕子系統

XENOS刻寫子系統是一種允許設計圖案數據并產生用于帶電粒子束（例如用于半導體光刻應用或聚焦離子束系統的電子束）轉向的相應偏轉信號的系統。可以連接到傳統的掃描電子顯微鏡、FIB或雙光設備上，升級系統，在半導體或其他材料上進行納米光刻。

高速刻寫

可以實現高達40MHz的像素速率。由于采用了智能寫入算法，可以考慮當前SEM的有限偏轉帶寬。優化的數據傳輸和穩定時間計算與高寫入速度相匹配，以提供快速寫入的所有優點。

智能且通用的格式

使用三階多項式掃描邏輯，可以僅基于硬件以Max速度生成和寫入這些多項式。因此，圓形、環形或橢球體可以由同心的單像素環書寫，通常在曝光過程中不需要消隱。并且，可以用Min的數據開銷和傳輸時間來實現理想的寫入速度和近似質量。此外，與結構的多邊形部分的光柵掃描相比，偏轉信號的正弦形狀消耗的偏轉帶寬要小得多。同時，寫入算法對稱地使用X軸和Y軸的帶寬。

高靈活性

模塊化系統可以進行配置，以滿zu您的需求。邏輯配置和DSP內核可以在幾分鐘內更新，以提供新功能。

配置高，應用界面友好

完整的偏轉信號生成是在每軸16/32位的可編程邏輯器件中實現的。特別是場校正不使用帶寬限制的乘法模擬DAC，而是數字構建的，工作到Max寫入速度，而在產生的偏轉信號中沒有任何失真。

控制軟件ECP基于Linux或Windows使用，CAD部分可在工作組中自由使用。

SEM刻蝕子系統應用圖例：

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