由于行業法規日益嚴格，供應鏈變得復雜以及更多地使用廢料作為基礎材料，因此鑄造廠和金屬制造商必須將雜質和痕量元素控制在低ppm范圍內。在過去，這一級別的OES對許多企業而言是遙不可及。日立分析儀器推出的OE系列可改變這一現狀。
日立直讀光譜儀可用于分析所有主要合金元素，并識別金屬中含量較低的雜質、痕量元素和關心元素，OE750臺式直讀光譜儀還覆蓋了罕見的應用，例如銅中的氧氣和鈦中的氧氣、氮氣和氫氣。
日立OE系列直讀光譜儀的測量速度快、可靠性高且運營成本低，可進行高性價比的日常分析和全面質量控制，其性能可與更大、更貴的光譜儀媲美。
為何選擇日立分析儀器固定式直讀光譜儀？
對多種元素的檢出限低
不僅可以分析絕大多數金屬及其合金中的主量和次量元素，還可以分析痕量的雜質元素
寬的光譜范圍，覆蓋幾乎所有關心的元素，包括鋼中的氮
綜合的牌號數據庫
結果觸手可及：結果形式多樣、自動存儲
使用既耐用又可靠的技術，獲得高分析性能
很短的開機和測量時間
三面開放的火花臺
高分辨率多CCD光學系統，以獲得的光譜分辨率
多樣式的結果，分析報告和結果處理選項
通過峰值位置校準(PPA)確保優異的長期穩定性
即使在惡劣條件下也可持續使用
亮點和應用
在一臺價格合理的儀器中進行快速、全面的金屬質量分析，OE750可提供您所需的一切。
覆蓋所有元素，以低檢出限進行完整的金屬分析
高光學分辨率，可控制雜質和痕量元素
出色的長期穩定性、精度和準確性
OE750：分析氣體（鈦中的氫和氧，銅中的氧）
購買價格和運行成本合理，性能可與更昂貴的分析儀相提并論
包括全面的金屬數據庫，可快速，輕松地識別牌號
可選的進料校正軟件可實現理想過程控制
產品參數
OE750 臺式直讀光譜儀 | |
| 高分析性能 | ? |
| 小體積，易運輸 | |
| 有限的預算 | |
| 制造QC/QA | ? |
| 熔煉流程控制 | ★★★ |
| 針對痕量和雜質元素的檢出限低 | ★★★ |
| 可擴展校準范圍 | ? |
| 超低碳鋼分析 | ? |
| 雙相不銹鋼中的氮分析 | ? |
| 低合金鋼中的氮分析 | ? |
| 測量低合金鋼中的酸溶鋁和酸不溶鋁 | ? |
| 分析鈦中的氫和氧，銅中的氧 | ? |
| 通過以下取得光學潔凈度 | 中壓力凈化系統（真空/氬氣凈化相結合） |
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