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詳細介紹
NL-UHV能夠在超真空中生成和沉積納米顆粒，以在樣品上創建功能化表面。 可以通過精確控制納米顆粒的尺寸、組成和結構來定制納米顆粒涂層的特性，從而實現定制化特性。
NL-UHV儀器允許將超純納米顆粒直接沉積在各種基底和材料上。可以調整膜的密度，并且涂層能夠很好地附著在樣品表面。 NL-UHV有多種配置可供選擇，包括單個1英寸和2英寸源，以及三重1英寸源NL-DX3，后者允許單獨或作為合金沉積多達三種材料。 NL-QMS質量過濾器提供了對納米顆粒沉積的高級控制，允許實時按質量或直徑掃描或過濾納米顆粒。 NL-QMS通過用戶友好的WindowsTM軟件操作，為沉積過程提供了直觀的控制。
介紹超真空-合金納米顆粒沉積 Nikalyte NL-UHV，合金納米顆粒沉積儀器系列，能夠在超真空中將納米顆粒生成并沉積到您的樣品上，以創建功能化表面。通過精確控制納米顆粒的尺寸、組成和結構，可以定制納米顆粒涂層的特性。
與化學技術不同，NL-UHV系列儀器允許將超純納米顆粒直接沉積在各種基底和材料上。可以調整膜的密度，且膜本身可以高度附著在樣品表面。
Nikalyte NL-UHV磁控濺射儀主要特點：
可烘烤至 250°C（無需移除磁鐵）
高達 40% 的出色靶材利用率
用于磁性材料的標準和高強度磁體
平衡或不平衡磁體配置的選項
簡單的卡口夾，便于直接安裝目標
包括手動或氣動控制快門之間的選擇
可用的濺射靶尺寸：1 英寸、2 英寸和 3 英寸
用戶友好的設計，帶有易于更換的磁鐵
可定制的真空長度
兼容 DC、RF、脈沖直流（單極或雙極）和 HiPIMS 電源
Nikalyte NL-UHV磁控濺射儀規格
濺射源 | 1.0″ | 2.0″ | 3.0″ | |
安裝法蘭 （CF （O.D.） | 4.5 英寸 | 6.0 英寸 | 6.0 英寸 | |
114 毫米 | 152 毫米 | 152 毫米 | ||
NW63CF | NW100CF | NW100CF | ||
兼容 UHV | 是的，可在高達 250°C 的溫度下烘烤（無需移除磁鐵） | |||
真空長度 | 200 毫米或 300 毫米 – 可根據要求提供特殊長度 | |||
源頭的真空直徑 | 45 毫米 | 72 毫米 | 93 毫米 | |
目標大小 | 1.0 英寸（25 毫米） | 2.0 英寸（50 毫米） | 3.0 英寸（75 毫米） | |
目標物厚度（使用標準磁鐵的非磁性目標物） | 最大 3 毫米 | 最大 3 毫米 | 最大 3 毫米 | |
目標物厚度（帶有強磁鐵的非磁性目標物） | 不適用 | 最大 7 毫米 | 最大 7 毫米 | |
目標物厚度（帶有強磁鐵的磁性目標物） | 不可用 – | 最大 1 毫米 | 最大 2 毫米 | |
0.4mm，帶標準 | ||||
磁性元件 | ||||
磁鐵 | 對于磁性或非磁性材料，平衡或不平衡，用戶可以輕松 | |||
更換 | ||||
電源 | 直流、射頻、脈沖直流（單極或雙極）、HiPIMS | |||
快門 | 一體式手動或可選氣動操作 | |||
冷卻 | 最小水流量為 1 I/min | |||
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