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液晶檢查顯微鏡簡述
閱讀：972發布時間：2017-7-7
主要特點：
UIS無限遠校正光學系統，提供出色的圖像質量；
人機工程學的進一步改善，使操作更為舒適；
多種高度功能化的附件，能滿足各種檢驗需要。
用途：
針對半導體工業、硅片制造業、電子信息產業、治金工業開發的，作為工業顯微鏡使用。可進行明暗場觀察、落射偏光、DIC觀察，廣泛用于工廠、研究機構、高等院校對硅片、電路基板、FPD、精密模具的檢測分析。
優點：
配有大移動范圍的載物臺、落射照明器、平場無限遠長工作距離明暗場物鏡、大視野目鏡、圖像清晰，襯度好。
優勢：
緊湊的Y型勻設計，穩定且占地小；
新的光路設計，光效率更高，采用長壽命鹵素光源；
反射鏡體，可用于明場、簡易偏光、微分干涉相襯觀察；
顯微鏡本體，反射照明器，物鏡轉換器都采用防靜電設計(ESD)。
上海力陽實業有限公司主營產品：OLYMPUS熒光顯微鏡,液晶檢查顯微鏡,超景深顯微鏡
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