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| 產地類別 | 國產 | 價格區間 | 1-5萬 |
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產品簡介
詳細介紹
上海金剛石拋光劑廠家的產品成分常見的是金剛石微粉，以共同的介質助劑，融物理與化學于一體研發而成。粒度散布均勻，顆粒描摹呈球形八面體，故拋光作用好，不易發生劃痕，硬度也*。對軟硬資料都有杰出的研磨拋光作用，首要用于機械研磨、拋光硬質合金、合金鋼、高碳鋼等高硬度資料以及金相和巖相試樣的精研等。粒度：W0.25、W0.5、W1、W1.5、W2.5、W3.5、W5、W7、W10、W14、W20、W28、W40，不同料的研磨拋光可選用不同粒度的上海金剛石拋光劑。W為微米um。
上海金剛石拋光劑廠家常將產品用于半導體硅片拋光、計算機硬盤基片、計算機頂頭拋光、精細陶瓷、天然晶體、硬質合金、寶石拋光等。浙江理協的上海金剛石拋光劑采用納米金剛石拋光石英、光學玻璃等材料，其拋光粗糙度達1nm。納米金剛石的使用有很多優點，由于超細、超硬，使得光學拋光中的難題迎刃而解。精密拋光是光學拋光中的難題，原工藝是把磨料重復使用，需幾十小時，效率很低。如今用了納米金剛石，拋光速度大大進步。拋光僅需十幾小時或幾分鐘，效率進步數十倍至數百倍。以下就是上海金剛石拋光劑的常見用法。從這些事例中不難看出，納米金剛石可以順應與滿足超精加工的需求。
上海金剛石拋光劑廠家詳細介紹產品的使用注意事項：
[1]將水基納米金剛石用于硅片拋光。用海藻酸鈉、羧甲基纖維素鈉、活性劑以及去離子水配制拋光液。對超分散納米金剛石拋光硅片進行了研討，并對干法拋光和拋光波濕法拋光進行了比照。干法拋光液使硅片粗糙度Ra從107nrn降到4nm。運用水基納米上海金剛石拋光劑濕法拋光，拋光效率更高，并且硅片的粗糙度更小，到達4nrn。
[2]一種水基納米上海金剛石拋光劑經過去離子水中加入納米金剛石、改性劑、分散劑、超分散劑、pH調理劑、潤濕劑、具有化學作用的添加劑經過超聲攪拌將納米金剛石分散成20~100nm的小體，制成拋光液。用于各種光電子晶體、計算機硬盤基片、光學元器件及銅銜接的半導體集成電路等的超精細拋光。用于硅片拋光，外表粗糙度達0.214nm。
[3]一種用于存儲器硬盤磁頭反面研磨的研磨液制造法。包括十到十三個碳的烷羥礦物油、十五個碳的油性劑、金剛石單晶微粉、抗氧化防腐劑、非離子活性劑、消泡劑和抗靜電劑，將該拋光劑用于磁頭反面拋光。研磨后外表劃痕、外表粗糙度是0.3~0.4nm。
[4]納米拋光液及其制造法的創造。以輕質白油為介質，參加非離子活性劑、抗靜電劑、凈洗劑以及pH調理劑制備了波動性較好的納米上海金剛石拋光劑。除了用于計算機磁頭之外，還可以用于光學器件和陶瓷等高精度研磨和拋光之用。
[5]對中等粒度納米上海金剛石拋光劑用于磁頭拋光工藝進行了研討。納米金剛石顆粒越細，拋光粗糙度越小、但是二者并不構成復雜的線性關系。拋光液的分散波動性很大水平上影響了外表劃痕。拋光液的波動分散是很重要的。制備一種水性納米上海金剛石拋光劑，經過三乙醇胺調整pH值后，用來拋光氧化鋁工件，這種拋光液使得被加工工件外表更容易清洗。
上海金剛石拋光劑廠家分享產品的使用方法：
1、使用上海金剛石拋光劑前將拋光織物用清水濕透，防止摩擦發熱;
2、發動拋光盤后將上海金剛石拋光劑輕搖后倒置噴出;
3、噴灑上海金剛石拋光劑時，應以拋光盤中心為圓心沿半徑方向噴出，3-5秒即可。新織物噴灑時應相應延長，以使織物有更好的磨拋;
4、拋光過程中不斷加適量的清水即可。注意：有單晶的和多晶的。