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北京賽凡光電儀器有限公司>>光譜測試技術(shù)>> EM13LD系列多入射角激光橢偏儀

LD系列多入射角激光橢偏儀

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  • LD系列多入射角激光橢偏儀
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參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號 EM13
  • 品牌
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 北京市
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更新時間:2015-12-25 13:00:06瀏覽次數(shù):783

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產(chǎn)品簡介

LD系列多入射角激光橢偏儀是采用量拓科技*的測量技術(shù),針對普通精度需求的研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的多入射角激光橢偏儀。

詳細介紹

EM13LD 系列是采用量拓科技*的測量技術(shù),針對普通精度需求的研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的多入射角激光橢偏儀。

EM13LD 系列采用半導(dǎo)體激光器作為光源,可在單入射角度或多入射角度下對樣品進行準(zhǔn)確測量。可用于測量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k; 也可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k;亦可用于實時測量納米薄膜動態(tài)生長中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設(shè)計實現(xiàn)了納米薄膜 的厚度測量。

    EM13LD系列采用了量拓科技多項技術(shù)。

特點:

  • 次納米的高靈敏度

    *的采樣方法、穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的制造工藝實現(xiàn)并保證了能夠測量極薄納米薄膜,膜厚精度可達到0.5nm。

  • 3秒的快速測量

    水準(zhǔn)的儀器設(shè)計,在保證精度和準(zhǔn)確度的同時,可在3秒內(nèi)快速完成一次測量,可對納米膜層生長過程進行測量。

  • 簡單方便的儀器操作

    用戶只需一個按鈕即可完成復(fù)雜的材料測量和分析過程,數(shù)據(jù)一鍵導(dǎo)出。豐富的模型庫、材料庫方便用戶進行高級測量設(shè)置。

應(yīng)用:

  • EM13LD系列適合于普通精度要求的科研和工業(yè)環(huán)境中的新品研發(fā)或質(zhì)量控制。
  • EM13LD系列可用于測量單層或多層納米薄膜層構(gòu)樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數(shù)k;可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k;可用于實時測量快速變化的納米薄膜的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。
  • EM13LD可應(yīng)用的納米薄膜領(lǐng)域包括:微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁質(zhì)存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等。可應(yīng)用的塊狀材料領(lǐng)域包括:固體(金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等),或液體(純凈物或混合物)。

技術(shù)指標(biāo):

 

 

項目

技術(shù)指標(biāo)

儀器型號

EM13 LD/635 (或其它選定波長)

激光波長

635 nm (或其它選定波長,高穩(wěn)定半導(dǎo)體激光器)

膜厚測量重復(fù)性(1)

0.5nm (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)

折射率測量重復(fù)性(1)

5x10-3 (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)

單次測量時間

與測量設(shè)置相關(guān),典型3s

zui大的膜層范圍

透明薄膜可達1000nm

吸收薄膜則與材料性質(zhì)相關(guān)

光學(xué)結(jié)構(gòu)

PSCA(Δ在0°或180°附近時也具有*的準(zhǔn)確度)

激光光束直徑

2mm

入射角度

40°-90°可手動調(diào)節(jié),步進5°

樣品方位調(diào)整

Z軸高度調(diào)節(jié):±6.5mm

二維俯仰調(diào)節(jié):±4°

樣品對準(zhǔn):光學(xué)自準(zhǔn)直和顯微對準(zhǔn)系統(tǒng)

樣品臺尺寸

平面樣品直徑可達Φ170mm

zui大外形尺寸

887 x 332 x 552mm (入射角為90º時)

儀器重量(凈重)

25Kg

選配件

水平XY軸調(diào)節(jié)平移臺,真空吸附泵

軟件(ETEM)

* 中英文界面可選

* 多個預(yù)設(shè)項目供快捷操作使用

* 單角度測量/多角度測量操作和數(shù)據(jù)擬合

* 方便的數(shù)據(jù)顯示、編輯和輸出

* 豐富的模型和材料數(shù)據(jù)庫支持

 

    注:(1)測量重復(fù)性:是指對標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點、同一條件下連續(xù)測量30次所計算的標(biāo)準(zhǔn)差。

 性能保證:

  • 穩(wěn)定性的半導(dǎo)體激光光源、*的采樣方法,保證了穩(wěn)定性和準(zhǔn)確度
  • 高精度的光學(xué)自準(zhǔn)直系統(tǒng),保證了快速、高精度的樣品方位對準(zhǔn)
  • 穩(wěn)定的結(jié)構(gòu)設(shè)計、可靠的樣品方位對準(zhǔn),結(jié)合*的采樣技術(shù),保證了快速、穩(wěn)定測量
  • 分立式的多入射角選擇,可應(yīng)用于復(fù)雜樣品的折射率和厚度的測量
  • 一體化集成式的儀器結(jié)構(gòu)設(shè)計,使得系統(tǒng)操作簡單、整體穩(wěn)定性提高,并節(jié)省空間
  • 一鍵式軟件設(shè)計以及豐富的物理模型庫和材料數(shù)據(jù)庫,方便用戶使用  

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