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DOE掩膜，可消除不需要的高衍射級次光學
DOE掩膜，衍射光學元件掩膜
DOE掩膜，主要用于精密的控制大功率激光的孔徑，它的結構是在玻璃基板上鍍有一層很薄（~1μm）的圖案反射涂層。
DOE掩膜的典型參數
衍射高級次消去膜通常分為兩種不同類型的掩膜
一種是電介質反射掩膜
電介質反射掩模，英文名為Dielectric Reflective Mask，是在熔融石英的基底上，鍍一層由非常薄（?1um）的反射涂層圖案。涂層部分反射入射光束，而未涂層部分透射光束。
電介質反射掩膜的特性：
針對單波長設計，高損傷閾值，低吸收率
反射部分，> 99％的高反射率
透明部分，> 95％的高透射率
很薄的掩膜層(~1um)
另一種是透射成像掩模
透射成像掩膜，英文名為Transmissive Imaging Mask，透射式掩模的特點是透射全部入射光，沒有任何阻擋，透射掩模使用衍射圖案以大角度漫射不需要的波段。
它的工作原理如下：
中心有一個和反射式掩膜類似的透明區域，光線直接透過，周圍區域具有衍射圖案，使不需要的入射光以大角度出射。配合聚焦鏡后焦平面放置的小孔，就可以阻擋大部分漫射光，從而達到阻擋多余激光的效果。
透射掩膜的特點：
不會有反射光的風險，導致損壞光學系統
~100％傳輸效率
比反射式掩模更高的激光損傷閾值
價格實惠
DOE掩膜的應用領域：
縮減傳輸區域，設置一個很小的傳輸區域
控制激光衍射圖案的大小
DOE掩膜的型號規格：
DOE掩膜，衍射光學元件掩膜
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