Photon ect.的可調激光源的高光譜成像系統

LIMA激光波長可調的高光譜顯微鏡，400-2500nm，光學分辨率<5nm

Photon等為高光譜暗場成像提供了兩種方式：可調諧激光源(TLS)允許在激發中過濾，而IMA是提供發射過濾的平臺。TLS由兩個模塊組成：超連續譜激光器和基于Photon的體積布拉格光柵（VBG）技術的激光線可調濾波器（LLTF帶通濾波器）。IMA由高光譜成像濾波器、高光譜模塊濾波器組成，也基于VBG技術。當與配備暗場聚光鏡的科研級顯微鏡結合使用時，TLS和高光譜模塊濾波器可以將該顯微鏡轉變為高光譜暗場設置。這些系統可在VIS(400-1000nm)、NIR(900-1620nm)或兩者(400-1620nm)光譜范圍內連續可調。這種平臺允許對納米材料進行深入表征，而無需任何特殊的樣品制備。

波長可調的高光譜顯微鏡是一種高光譜成像系統，也叫作可調高光譜成像系統、可調激光源的高光譜成像系統、激光波長可調的高光譜顯微鏡。

TLS法得到的結果：下圖為使用高光譜暗場成像研究的靶向CD44+人乳腺癌細胞的金納米粒子(AuNP)顯示的3D圖像，此類空間和光譜信息對于改進復雜生物環境中基于納米等離子體的成像、疾病檢測和治療至關重要。該設置已成功用于在固定細胞制劑中對CD44靶向AuNP進行3D光譜定位和光譜鑒定。

上面a圖代表100×物鏡的焦平面在玻璃基板表面上時的暗場圖像，b圖代表100×物鏡的焦平面在人類乳腺癌細胞的頂面或細胞內部時的暗場圖像。

上圖表示使用Photon等公司的高光譜暗場成像儀研究以3nm的步長從432nm到849nm改變激發波長，100nm金納米粒子的散射數據。圖a和圖b顯示了從數據中提取的高光譜結果，它對應圖c(典型的散射光譜)。波長的變化可以幫助識別粒子的大小，空間信息可以幫助評估它們的分布。

IMA法：使用60X物鏡，150x112μm2的區域在400nm到650nm范圍內成像，步長為2nm，曝光時間為2秒。每個波長。在幾分鐘內，獲得了超過一百萬張光譜，每張光譜都覆蓋了整個可見光范圍。

圖中，圖a中AuNps（60nm大小）標記的人乳腺癌細胞的暗場圖像，圖b中綠色代表550nm處AuNP金納米粒子的單色圖像。圖c代表細胞放大圖，圖d代表含有AuNP的區域的光譜，這證實了60nm納米顆粒的存在。

那我我們的高光譜系統存在哪些優勢呢？

相比常規的近紅外一區（700-900nm，NIR-I）熒光成像，近紅外二區（1000-1700nm，NIR-II）熒光成像優勢很多，比如，其自發背景熒光較低，激光進入組織后穿透性更強，具有較高的信背比，且生物檢測的安全性更高。

系統支持暗場、或標準明場反射和透射成像，比逐點或基于線掃描的系統更快。

Photon ect.的LIMA可調激光源的高光譜成像系統特點：

-高光學分辨率<5.0nm

-高波長分辨率：FWHM/8（<0.7nm）

-高空間分辨率：亞微米（受到光譜顯微鏡NA的限制）

-科研級別的產品，可正放或倒放

-掃描速度快

-透射式照明、熒光照明

Photon ect.的LIMA激光波長可調的高光譜顯微鏡應用：

-生命科學（生物化學和納米傳感器、金納米粒子暗場成像）

-材料科學（鈣鈦礦（CIS）、銅銦鎵硒（CIGS）、硅（Si）、碳化硅（SiC）等光譜和空間分析）

Photon ect.的可調激光源的高光譜成像系統