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EDK 6900S系列TDLS激光微量氣體分析儀
NH3 /CH4/HF /HCl /CO2/H2O等
原理
EDK系列產品采用增強型TDLS技術，0,1nm的掃描波長，避免目標被測氣體吸收波長的交叉干擾，也可稱為“指紋光譜”，可實現高分辨率的近紅外吸收測量。電子鎖相技術實現從光電信息中提取并分離出被測氣體的吸收信息，此種檢測方法，不需要物理參考池，且提供了連續的傳感器狀態監測。EDK TDL6900系列產品提供了高精度、低檢測限的解決方案，儀器具有對被測氣體高準確度選擇性進行非接觸式測量、免標定、低成本、易操作等特點。
EDK TDL6900系列產品可以輕松測量一些常規方式不易測量的微量氣體，比如NH3、CH4、CO2、H2O等，這些氣體的監測與分析在很多工業場合至關重要。高靈敏度和寬的動態量程，是可調諧半導體激光器光譜（TDLS）技術的基本特性，可用于測量sub-ppm到%范圍的氣體。
典型應用 系列產品
√ CH4甲烷 垃圾填埋 EDK 6901 A – 大氣微量CH4監測
√ 生物氣/沼氣分析監測 EDK 6902 A - 大氣微量CO2 監測
√ 連續污染物排放監測 EDK 6903 A - 大氣微量 NH3 監測
√ 逃逸排放 EDK 6903 H - 高溫高濕氣中微量NH3監測
√ 天然氣監測與分析 EDK 6904 H - 高溫高濕氣中微量HCl 監測
√ 農業領域 EDK 6900 X - CH4/NH3、 CO2 (NDIR)、O2 (ECD)
√ 工業過程控制
√ 煙氣脫硝 SCR/DeNOx
√ 氣候變化研究
√ 環境研究
√ 呼吸分析
優勢
技術參數
目標氣體 zui低檢測限 典型量程
NH3, (H2O) 氨 ***
(高溫高濕工況) 0.8 ppm 0 – 20, 50, 100, (500) ppm
HCl, (H2O) * ***
(高溫高濕工況) 0.8 ppm 0 – 50, 100, (500) ppm
NH3 氨 0.4 ppm 0 – 100 (500) ppm
CH4 甲烷 0.4 ppm 0 – 100 (40'000) ppm
CO2 二氧化碳 4.0 ppm 0 – 1000 (300’000) ppm
* 其他氣體可定制
** 檢測限是在恒溫恒壓恒濕20°C, 1013 hPa、50 ± 1.5 % r.H.條件下。 系統溫度的突然變化導致的檢測限變化要快于濃度的變化，
*** 基于光譜原因，檢測限隨著高溫增加而會降低，比如 NH3 @ 190°C.
準確度 ± 2%FS 根據積分穩定性（溫度&壓力）而定
精度 根據氣體而定
零漂 超過兩小時每周期---在準確度內
量程漂移 超過八小時每周期---在準確度內
zui大溫度誤差 < 0.1 讀數/°C
線性/重復性 < ± 2%
交叉干擾 由混合氣體定，或者根據實際工況
顯示分辨率 0.1 ppm
刷新率 1s (可設置，zui多120 s)
T90時間 2s (@氣量3 L/min)
環境溫度補償 -10 ~65°C (盡可能小的溫度波動)
zui大樣氣濕度 %濕度，根據工況，需要輸入標定，通過外擴補償壓力、溫度或混合氣體濃度，可定制
zui大樣氣量 5(1)L/ min; 標定時3L/min
供電 VAC220-230/115 50/60 Hz
外殼 19’’ 標準機架安裝（深500mm）
防爆等級 ExdII CT4, ExdII CT5,(可定制)
氣路接口 世偉洛克 Φ6 mm
測量方式 原位抽取
采樣泵 Internal內置
模擬輸出 4-20 mA 電流環(無隔離)
端口 Ethernet網口
顯示器 5.7” 觸摸屏
數據存儲 通過USB口
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