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產品簡介
詳細介紹
二氧化硅濃度檢測儀
ET8100二氧化硅濃度檢測儀測定范圍：0.05 to 4.0 mg/L SiO2，紅外數(shù)據傳輸功能，16組數(shù)據存儲，可隨時調閱，GLP管理功能，出廠校準和用戶自定義校準雙模式，防水設計，適用于實驗室和現(xiàn)場快速樣品分析測量
ET8100，采用*SMD微電腦控制技術，高質量窄波段濾光器，具有溫度補償LED光學系統(tǒng)，整體設計緊湊，防水樣品池，確保測量快速準確，重現(xiàn)性好，具有校正功能和內置軟件調整功能，應用于科研、計量做樣品檢測、鑒定。
功能特點：
1.全新人性化防水設計,精巧便攜,操作簡捷、精確快速測量；
2.背景燈顯示屏，良好的GLP功能，自動關機設置；
3.記憶使用方法，快速查找所有方法，保證標準統(tǒng)一性；
4.16組數(shù)據存儲，可以隨時調閱讀取，方便現(xiàn)場數(shù)據整理和記錄；
5.*紅外傳輸設計，IRiM紅外傳送器（ET214050）和電腦連接；
6.出廠和用戶自定義雙校準功能，儀器關閉時自動記憶上次零點校準，無需每次測量再對儀器零點校正，確保測量精確可靠；
7.防水樣品池設計，預制配套試劑，操作維護更加合理；
8.應用于水處理、廢水/飲用水、冷卻水/鍋爐水、泳池水等
ET8100技術參數(shù)：
測量范圍 | 0.05 to 4.0 mg/L SiO2 |
解析度 | 0.01 mg/L/ |
測量精度 | ±0.1mg/L |
試劑類型 | ET517671試劑（片劑、100） |
測量方法 | 德國光譜分析學術論文集，斯圖加，1989.硅十二鉬酸鹽法 |
光學系統(tǒng) | 防水樣品池，溫度補償LED光學系統(tǒng)；雙光源：430nm△λ=5nm；660nm△λ=5nm；波長精度：±1nm |
光度指標 | 解析度：0.01A 精度：3%F.S.@ 20 to 25°C |
校準模式 | 自動零點校正，出廠校準和用戶自定義雙校準模式 |
數(shù)據管理 | 16組測量數(shù)據自動存儲，隨時查詢讀取，使用IRiM紅外傳送輸模塊，便捷數(shù)據傳輸和管理 |
電源模式 | 4×1.5AAA電池，10分鐘無操作自動關機、LCD背景燈 |
使用環(huán)境 | 5 to 40℃、RH：30 to 90% 無冷凝 |
認證標準 | CE認證、IP68（0.1m條件下，1小時） |
尺寸重量 | 主機：190×110×55mm，主機重量：455g |