德國Hitec Zang高壓反應器系統HiClave

HiClave™高壓工藝反應裝置適合于高壓工藝反應，特別是多相高壓反應的系統。

它們可以作為單一的或者平行的反應系統進行操作。

HiClave™高壓反應系統提供10-250 ml的反應體積；

zui大耐受壓力300 bar，zui高溫度達300℃；

由于純金屬壓力帽密封，使系統達到密封狀態，可以精確地測量氣體的消耗；

zui多可以有7個介質可以連接；

不同的加熱制冷系統；

磁力攪拌器或磁封的頂置式機械攪拌機；

不同形式的氣體/液體的供應系統；

除了標準配置以外，您可以按照自己需求訂制系統               

HiTec Zang高壓工藝反應裝置適合以下應用

›氫化反應 ›氧化反應 ›碳化反應 ›聚合反應

10 ml and 20 ml 反應器

10ml和20ml反應器有一個帶有螺帽的釜蓋和一個十字連接。

十字的上部一般由內部溫度控制器占用，兩個側臂一般連接介質和壓力表。              

反應器可用加熱磁力攪拌器加熱，用攪拌子攪拌。

50 ml 反應器

用加熱套筒加熱，并從頂部攪拌。

可以使用冷卻板進行冷卻。

可使用加熱磁力攪拌器進行加熱和攪拌。           

由一個帶有螺帽的釜蓋和3個連接頭組成。

可以用于安裝磁力耦合的攪拌器、溫度控制器和連接介質。

100-250 ml 反應器

帶七個連接出口的法蘭蓋，其中三個在釜蓋的外側，方便操作。

*出口由磁力耦合的攪拌電機使用。

反應器用SS 1.4571不銹鋼（SS 316 Ti）或哈氏合金C4制造。

使用加熱套筒加熱，可以通過冷卻板或內部冷卻回路冷卻。

利用頂置式攪拌器攪拌，zui大扭矩20或50 NCM。

Hydration 模塊

Vl-hiclave-hydr模塊自動執行包括惰性氣體清洗和反應器泄漏測試在內的整個程序。

將惰性氣體通入反應器，達到一個zui高可調的壓力水平進行充氣。

清洗周期可根據需要重復操作，zui后用惰性氣體進行壓力測試。

測試時間和通過測試的尺度可自由選擇。

只有通過測試，反應氣體才被釋放，用于清洗，達到設定壓力后，程序啟動。             

內置的氣體消耗測量單元可以記錄動力學數據，氣體消耗速度也可以用作中止反應的標準

監測數據被自動記錄和呈現在報告中，氣體消耗曲線的動力學分析和測量過程同時完成。

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