連續振蕩振幅及頻率是固定的可強力清洗。由駐波作用使清洗不均，應增加搖動，達到清洗均勻性。
    加寬調制振幅變化有良好的脫氣效果，對不同物體清洗性好，噪聲大。
    頻率調制（FM振蕩）振蕩頻率實行數千赫的變化能均勻地清洗。清洗效率差，平均輸出功率低。
    同時多頻率多種頻率同時發生形成均衡的聲場，清洗均勻，不易得到強力的超聲波。
    多頻率交替每一種頻率發生復數個頻率清洗均衡，不易得到強力清洗。
    圓錐形輻射清洗用不銹鋼制成的共振體進行超聲波輻射。一般在清洗不充分場合使用可獲得常規超聲波10倍或20倍的強度，性能高。但清洗面小，噪聲大。
清洗條件的選擇設定主要有以下數點：
1·清洗位置：將清洗物置于駐波壓力zui大的位置，可獲得*的清洗效果。但是比駐波大的物體清洗時，易產生清洗不均，這時應將物體在上下數十毫米內加以搖動，這是減少清洗不良的常用方法。
2·由網孔引起的衰減：在清洗小型另件時，多使用網籃方式，網籃網孔的大小不當，會造成超聲波衰減，使清洗力降低，例在28KHZ場合，網籃的網孔直徑需在5mm以上，才可正常清洗。如小的螺釘清洗時，網孔zui小要做到1mm，如果衰減大，使用0．1-0．5mm的薄板網藍，也可得到正常清洗效果。
3·頻率：對于頻率因素涉及的清洗效果，大體可這樣認為，采用頻率低的針對較難清洗的污垢，頻率高的，適合于精密清洗場合。
4·液體溫度：隨著液溫的上升，液中生存的氣泡會遮斷聲波，使超聲波減弱，但是在常規做法上都以提高液溫來增加清洗能力。適合的液溫要針對不同的清洗液和清洗物來確定，一般場合液溫在5060℃比較適當。
清洗工序和清洗裝置:
    清洗工序的設定要根據污染的類型，污染程度，處理批量來決定，譬如，眼鏡片的清洗一般要10個工序。在使用水系清洗劑時，zui基本的工序制定如下：
    超聲波清洗(水系清洗劑)→超聲波清洗(純水、自來水)→脫水(干燥)
    干燥處理對清洗物的清洗性優劣非常重要，常見的干燥方法有熱風干燥、通風干燥、真空干燥、離心脫水干燥、IPA提升干燥等，可按照生產批量、成本、產品精度、被洗物形狀等加以選擇。
    工業用超聲波清洗機多為單槽或雙槽式、自動清洗形式的清洗機也有多槽形式。近年來，半導體行業用的清洗方式大多采用帶950KHZ超聲槽的單枚式“US噴淋”高頻清洗，可得到高性能的清洗結果，“US噴淋”的方式是將載有950KHZ超聲波所形成的水帷幕，用于液晶玻璃、電路芯片的超精密清洗，塵粒子可接近“零”的程度。
    今后不同產品的濕式清洗，如需100％地發揮清洗劑的性能作用，對超聲清洗裝置將會提出更高的要求。