全反射X射線熒光(TXRF)是一種微量分析方法，特別適用于樣品量小的樣品，一次分析所需樣品量，固體材料可達(dá)μg級(jí)，液體樣品則通常少于100μL。
TXRF受自身原理限制，樣品于玻片上必須滿足薄層的要求，以消除普遍存在于EDXRF中的基體影響。因此，其樣品量明顯減少，且前處理方式也有著明顯不同。
通常，可根據(jù)樣品形態(tài)選擇合適的前處理方式，且可能需要考慮如下的幾點(diǎn)要求：
a. 于樣品玻片上形成均勻的薄層；
b. 待測(cè)元素及內(nèi)標(biāo)元素均勻分布；
c. 待測(cè)元素的富集；
d. 待測(cè)元素與干擾元素的分離；
e. 阻止樣品溶液擴(kuò)散；
基于以上因素，TXRF所采用的前處理既繼承了部分常見(jiàn)無(wú)機(jī)元素檢測(cè)中的方法，又發(fā)展出了具有自身特色的前處理方式，如下圖：
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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