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C-43型 9英寸高精度國產光刻機多點光源曝光頭是一款專用于中小規模集成電路、半導體元器件以及聲表面波器件的研制和生產的優良設備。其出色之處在于其高度優良的找平...

C-43型多點光源曝光頭高精度國產光刻機主要用途是在中小規模集成電路、半導體元器件和聲表面波器件的研制和生產中使用。C-43的出色之處在于其先進的找平機構，這使...

C-33型 4英寸 國產高精度對準光刻機主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件的研制和生產。由于本機找平機構先進，找平力小、使本機適合硅片、玻璃片...

C-33型 國產雙面光刻機 精密光刻設備被廣泛應用于中小規模集成電路、半導體元器件、以及聲表面波器件的研制和生產。它的高級找平機構使其適用于各種材料的曝光，包括...

C-31型 雙面國產光刻機主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件的研制和生產。由于本機找平機構先進，找平力小、使本機適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片...

C-25XB型 4英寸/6英寸 高精度對準光刻機本機針對各大專院校、企業及科研單位。對光刻機使用特性研發的一種高精度的光刻機，三層減震，組合式，拆卸方便。它主要...

C-25X型4英寸/6英寸單面光刻機精密光刻設備針對各大專院校、企業及科研單位。對光刻機使用特性研發的一種高精度的光刻機，三層減震，組合式，拆卸方便。它主要用于...

C-25XA型 4英寸/6英寸 高精度對準光刻機針對各大專院校、企業及科研單位。對光刻機使用特性研發的一種高精度的光刻機，三層減震，組合式，拆卸方便。它主要用于...

C-25型單面光刻機 高精度主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件的研制和生產。由于本機找平機構先進，找平力小、使本機不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片...