當前位置:上海添時科學儀器有限公司>>制膜設備>>磁控濺射鍍膜>> VGB-600-3HD薄膜電池制備系統
主要特點:
1、配置三個靶槍,一個配套射頻電源通過轉換開關可以分別連接至任一靶頭,用于各類靶材的濺射鍍膜(靶槍可以根據客戶需要任何調換)。
2、可制備多種薄膜,應用廣泛。
3、體積小,操作簡便。
4、整機模塊化設計,真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計,可根據用戶實際需要調整。
5、可根據用戶實際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍(選配)。
6、可在手套箱內進行實驗操作,更換各類易氧化的靶材用于鍍膜實驗。
技術參數:
產品名稱 | VGB-600-3HD薄膜電池制備系統 | |
產品型號 | VGB-600-3HD | |
主要參數 | 三靶磁控濺射部分 1、電源電壓:220V 50Hz 2、總功率:2.5KW 3、極限真空度:< E-6mbar(配合本公司機械泵設備使用可達到 E-3mbar) 4、工作溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據實際需要提升溫度) 5、靶槍數量:3個 6、靶槍冷卻方式:水冷 7、靶材尺寸:?2″,厚度0.1mm-5mm(因靶材材質不同厚度有所不同) 8、濺射電源功率:300W(射頻)/500W(直流) 9、載樣臺:?140mm 10、載樣臺轉速:1rpm-20rpm內可調 11、保護氣體:Ar、N2等惰性氣體 12、進氣氣路:質量流量計控制2路進氣,1個流量為100 SCCM,1個流量為200 SCCM 手套箱部分 1、電源:單相AC110V-220V 50Hz/60Hz 2、殼體材料:304不銹鋼 3、手套箱腔體:1220mm×760mm×900mm 4、前級室:設有2個前級室,大前級室?360mm×600mm,小前級室?150mm×300mm 5、腔體環境:水含量<1ppm(20℃,1atm),氧含量<1ppm(20℃,1atm) 6、工作氣體:N2、Ar、He等惰性氣體 7、控制氣體:壓縮空氣或惰性氣體 8、還原氣體:工作氣體和H2的混合氣(如果凈化系統只有除水功能,還原氣體與工作氣體相同) 9、氣體凈化系統: 德國BASF除氧材料、美國UOP高效吸水材料,凈化系統再生過程自動控制,自動除水、 除氧功能, 可長期、持續維持氣體純度在水<1ppm、氧<1ppm 10、壓力控制系統:腔體氣壓可通過PLC觸摸屏自動控制,控制精度為±1Pa,也可通過腳踏開關進行手動控制11、過濾系統:進、出氣端都裝有過濾器,過濾精度為0.3μm 12、控制系統:SIEMENS彩色觸摸屏(6寸),PLC控制系統,中英文雙語可切換; 水探頭采用美國GE品牌,0-1000ppm觸摸屏顯示,精度0.1ppm; 氧變送器采用美國AII品牌,0-1000ppm觸摸屏顯示,精度0.1ppm; 壓力傳感儀采用美國setra品牌,-2500-2500Pa觸摸屏顯示,精度±1Pa; 13、真空泵:采用英國EDWARDS品牌,抽速8.4m3/h-12m3/h 14、手套:美國NORTH品牌丁基合成橡膠 15、照明系統:飛利浦品牌熒光燈管 | |
產品規格 | 三靶磁控濺射部分:950mm×460mm×810mm |