OTF-1200X-II-HG是一款雙溫區濕度可控氫氣熱處理爐,此設備帶有兩通道氣體控制器,氣液混合罐,露點儀和氫氣探測器,此設備專門設置對材料進行濕氫處理,以達到材料表面部分氧化,同時也進行各種CVD實驗。精密露點儀測量精度可以達到 +/-1.5%RH。若有實驗中發生氫氣微露現象(氫氣爆炸點的10%),3M公司的氫氣探測器將發生報警信號,使整個實驗在安全的環境下進行。
技術參數
爐體結構
| - 雙層殼體結構,并帶有風冷系統,使得殼體表面溫度小于60℃
- 采用高純氧化鋁纖維作為爐膛材料,并且表面涂有美國進口的1760度高溫氧化鋁涂層(可延長設備使用壽命和提高加熱效率)
- 開啟式爐體設計,方便更換爐管
- 儀器包括氫氣探測器和蜂鳴報警器,達到安全實驗
- 帶有氣液混合罐,并套有加熱環,控制器控制升降溫
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大功率 | 4KW |
輸入電壓 | AC 208 - 240V 單相 (需要30A 的空氣開關 ) |
加熱元件 | 摻鉬鐵鉻鋁(電阻絲的表面涂有美國進口的高溫氧化鋯涂層,可以提高加熱元件的使用壽命) |
加熱區長度 | - 兩個溫區,每個溫區長度為200mm,
- 總溫區長度:400mm
- 恒溫區:200mm(兩個溫區可設置同樣的溫度)
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高工作溫度 | 1200℃(小于1小時) |
連續工作溫度 | 1100℃ |
建議升溫速率 | 10°C /min |
爐管和法蘭 | - 高純石英管:Φ50 (OD)×Φ44 (ID) ×1000 L, mm
- Φ60 (OD)×Φ54 (ID) ×1000 L, mm
- Φ80 (OD)×Φ74 (ID) ×1000 L, mm
- Φ100 (OD)×Φ94 (ID) ×1000 L, mm
- 304不銹鋼法蘭,上面安裝有機械壓力表和針閥,爐管內真空度可以達到10 - 5 torr(采用分子泵)
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溫控系統 | - 兩個溫區分別由兩個控溫儀表獨立控制,可設置30段升降溫程序。
- 采用PID方式控制升降溫
- 帶有過熱和斷偶保護
- 控溫精度+/- 1 ?C
- 爐體面板上有RS485接口,可額外在本公司購買控溫軟件,可將升溫程序和溫度曲線導入到電腦中
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氣體控制 | - 安裝有兩個50-500ml/min浮子流量計,控制進氣流量
- 一個浮子流量計直接與法蘭相連接,可通入干燥的氫氣進入爐管
- 另一個浮子流量計與氣液混合罐,可通入濕氫進入爐管中。
- 可在本公司選購質量流量計控制系統,可以更精確地控制氣體流量。
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氣液混合罐 | - 一個304不銹鋼混合罐,容積為600ml( 80OD x 200H, mm)
- 混合罐放置在一個加熱環中
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露點儀
| - 一個精密的露點儀,帶有KF25接頭
- 測量范圍:0 - 100% RH (精度為1.5%FS),-60? ~ +60? DP(精度+/-0.3?)
- 可調試混合罐的溫度和氫氣流量來調節水分含量
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氫氣探測器
| - 工作溫度:-18?C - 65?C
- 報警點:氫氣爆炸點的10%
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儀器尺寸 | 1400×600×1200mm |
質保期 | 一年質保期(不包括爐管,密封圈和加熱元件等易耗件) |
質量認證 | CE Certified |