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小型全自動氫氣站

參  考  價面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號ZPH-GCD-9000

品       牌其他品牌

廠商性質生產商

產品資料下載

所  在  地北京市

更新時間:2020-04-28 11:14:47瀏覽次數:738次

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產地類別 國產 應用領域 電子/電池
小型全自動氫氣站/全自動氫氣站
氫氣純度:99.999%
氫氣流量:0-9000ml/min
工作壓力:0.4MPa
消耗功率:2KW

小型全自動氫氣站/全自動氫氣站  型號:ZPH-GCD-9000

參數:

氫氣純度:99.999%
氫氣流量:0-9000ml/min
工作壓力:0.4MPa
消耗功率:2KW
外形尺寸:主機 420×355×770(mm) ×3臺
                    輔助電源 420×355×370(mm)
凈     重:約140Kg

特點:

安全可靠,自動流量跟蹤,雙級過濾,內有微量氧脫除劑(不需活化),儀器內部采用硅橡膠圈(含硫量低),有效提高氣體質量,保證色譜基線平穩,自動防返堿。 用于中心實驗室集中供氫 可用于石化、半導體等行業

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

產品名稱:便攜式粉塵檢測儀 便攜式激光粉塵檢測儀

產品型號:HAD-JCF-5C
  1. 產品介紹

HAD-JCF-5C便攜式激光粉塵檢測儀是新一代粉塵濃度檢測儀器,可實時快速測量空氣中不同粒徑的顆粒物濃度。聚創環保儀器符合工業企業衛生標準(GBZ1-2002)、工作場所有害因素接觸限值(GBZ2-2002)標準、衛生部WS/T206-2001《公共場所空氣中可吸入顆粒物(PM10)測定法-光散射法》標準、勞動部LD98-1996《空氣中粉塵濃度的光散射式測定法》標準以及衛生部衛監督發〔2006〕58號文件頒布實施的《公共場所集中空調通風系統衛生規范》。

JCF-5C便攜式激光粉塵檢測儀可廣泛應用于疾病控制中心、衛生監督、環境監測、各企業等對環境中PM2.5、可吸入顆粒物進行快速監測。適用于公共場所、中央空調排氣口可吸入顆粒物濃度的快速測定,以及用于空氣凈化器凈化效率評價等。
二、產品參數
1、★測量原理:激光散射,佩戴切割器
2、★測量粒徑:同時檢測并顯示PM2.5、PM10、TSP濃度,可根據用戶要求定制其他粒徑
3、測量范圍:PM2.5、PM10測量范圍0.001~10 mg/m³;TSP測量范圍0.001~100 mg/m³;根據用戶要求定制其他測量范圍
4、測量靈敏度:0.001mg/m³
5、采樣時間:標準時間為1分鐘,用戶可根據自己的實際需求自由設定
6、電源:220VAC/12VDC 電源適配器、可充電電池組
7、★連續測量:可自行設定間隔時間并進行連續測量

8、★零值校準:儀器可對零點誤差進行校準。

9、★K值設定:可根據用戶的需求調節K 值,出廠調試默認K值。

10、數據處理:可連接電腦,可連接打印機,打印機為選配件

11、★購買儀器可贈送檢定報告復印件一份。

三、產品特點
1、人體工程學,輕便小巧,便于攜帶
2、儀器內置實時時鐘,測量數據和時間一一對應,方便用戶查看和使用數據
3、一機多用,可同時測量并顯示PM2.5、PM10和TSP的濃度
4、測量時間可自由設置,便于滿足不同種類用戶不同場地的測量需求
5、大容量存儲空間,便于測量數據的存儲和查看
6、★佩戴數據處理軟件,便于用戶的統計與分析
7、內置電池,交直流兩用,使用更加便捷

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

產品名稱:薄膜測厚儀 測厚儀 
貨  號:29204
產品型號:HAD-SGC-10
儀器介紹

HAD-SGC-10薄膜測厚儀,適用于介質,半導體,薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測量。該薄膜測厚儀,是我公司與美國new-span公司合作研制的,采用new-span公司的薄膜測厚,基于白光干涉的原理來測定薄膜的厚度和光學常數(折射率n,消光系數k)。通過分析薄膜表面的反射光和薄膜與基底界面的反射光相干形成的反射譜,用軟件來擬合運算,得到單層或多層膜系各層的厚度d,折射率n,消光系數k。該設備關鍵部件均為國外進口,也可根據客戶需要*。

   

 

- 強大的軟件功能

界面友好,操作簡便,用戶點擊幾下鼠標就可以完成測量。便捷快速的保存、讀取測量得到的反射譜數據數據處理功能強大,可同時測量多達四層的薄膜的反射率數據。一次測量即可得到四層薄膜分別的厚度和光學常數等數據。材料庫中包含了大量常規的材料的光學常數數據。用戶可以非常方便地自行擴充材料數據庫。

 

 

 

 

 

- 產品功能適用性

該儀器適用于多種介質,半導體,薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測量。

 

 

 

- 典型的薄膜材料為

SiO2、CaF2、MgF、光刻膠、多晶硅、非晶硅、SiNx、TiO2、聚酰亞胺、高分子膜。

 

 

 

- 典型的基底材料為

SiGe、GaAs、ZnS、ZnSe、鋁丙烯酸、藍寶石、玻璃、聚碳酸酯、聚合物、石英。

 

儀器具有開放性,儀器的光纖探頭可很方便地取出,通過儀器附帶的光纖適配器(如圖所示)連接到帶C-mount適用于微區(>10μm,與顯微鏡放大率有關)薄膜厚度的顯微鏡(顯微鏡需另配),就可以使本測量儀測量。

 


基本配置及參數

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

在線二氧化氯檢測儀 二氧化氯測試儀  型號:HAD-CL8136H

 

在線二氧化氯是帶微處理器的水質在線監測控制儀。該儀表廣泛用于飲用水處理廠、飲用水分布網、游泳池、水質處理工程、污水處理、水質消毒(二氧化氯發生器配套)等各個行業過程,對水溶液中的二氧化氯值進行連續監測和控制。

 

儀表特點

  • LCD 大屏液晶顯示

● /英文菜單操作

  • 多種自動標定功能

  • 多種信號輸出方式可選

  • 兩組繼電器控制開關

  • 高限、低限、遲滯量控制

  • 同一界面顯示二氧化氯值和狀態等

  • 設有密碼保護防止非工作人員誤操作

參數:

  1. 測量范圍:

二氧化氯:0~20.00mg/L(ppm; 度:0~50.0℃(選配

  1. 分辨率:

氧化氯:0.001mg/L; 溫 度:0.1℃;

  1. 基本誤差:

二氧化氯:±1%F.S;  :±0.3℃;

  1. 響應時間:90%少于 90 秒;

  2. 電流輸出(標配 1 路,可選配 2 路 0/4~20mA(負載電阻<750Ω);

20~4mA(負載電阻<750Ω);

  1. 通訊輸出:RS485 MODBUS RTU(選配;

  2. 兩組繼電器控制觸點: 10A 250VAC,10A 30VDC;

  3. 供電電源(選配: 85~265VAC±10%,50±1Hz,功率≤3W;

9~36VDC,功率:≤3W;

(9)外型尺寸:96×96×130mm;

  1. 安裝方式:盤裝(嵌入式;安裝開孔尺寸:91×91mm;

  2. 防護等級:IP54;

(12)重量:0.5kg;

(13)工作環境:

環境溫度:-10~60℃; 相對濕度:不大于 90%;

除地球磁場外周圍無強磁場干擾。

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

經濟型超純水機       超純水機   HAD-UPT-I-10T

產品介紹:

經濟型超純水機HAD-UPT-I-10T經濟型超純水機精簡,可直接將自來水純化為符合國標GB6682-92的實驗室級純水和超純水,全自動“傻瓜”式,系統運行狀態一目了然,使用方便,是一款高性價比的實驗室超純水機,能夠滿足各類光譜/色譜/質譜等儀器分析用水需求。

 

指標 :

機 型HAD-UPT-I-20T
進水水源總溶解性固形物TDS<200ppm,水壓0.10-0.40MPa,水溫5-45℃
制 水 量20升/小時
出水流量1.5-1.8升/分鐘(水箱儲水時)
RO出水水質電導率≤進水電導率×2%
UP出水水質電阻率17-18.2MΩ.cm(在線監測)
主機尺寸(mm)臺上式(L×W×H):515×320×485
工作電源AC220V/50HZ(功率:30-150W)
重 量(kg)30-40kg
適用范圍制備溶液,試劑,緩沖液等;
器皿沖洗/學生實驗;
小型生化儀配套;
理化檢測等常規定性定量分析;
......
水箱配置臺上式機型標配15升壓力純水箱

訂貨須知:

源水水質較差(TDS>200ppm)時,本機型RO純水水質會降低至電導率10μs/cm以上;
臺上分體式機型均可改裝為一體落地式機型(原臺上式基本配置不變);
選配0.2μm終端微濾器
純水箱配置:臺上式機型標配15升壓力純水箱 
20升/小時落地式標配40升壓力純水箱
40~60升/小時落地式標配70升壓力純水箱
100升/小時落地式機型標配100升壓力純水箱

 
產品名稱:薄膜測厚儀 測厚儀 
貨  號:29204
產品型號:HAD-SGC-10
儀器介紹

HAD-SGC-10薄膜測厚儀,適用于介質,半導體,薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測量。該薄膜測厚儀,是我公司與美國new-span公司合作研制的,采用new-span公司的薄膜測厚,基于白光干涉的原理來測定薄膜的厚度和光學常數(折射率n,消光系數k)。通過分析薄膜表面的反射光和薄膜與基底界面的反射光相干形成的反射譜,用軟件來擬合運算,得到單層或多層膜系各層的厚度d,折射率n,消光系數k。該設備關鍵部件均為國外進口,也可根據客戶需要*。

   

 

- 強大的軟件功能

界面友好,操作簡便,用戶點擊幾下鼠標就可以完成測量。便捷快速的保存、讀取測量得到的反射譜數據數據處理功能強大,可同時測量多達四層的薄膜的反射率數據。一次測量即可得到四層薄膜分別的厚度和光學常數等數據。材料庫中包含了大量常規的材料的光學常數數據。用戶可以非常方便地自行擴充材料數據庫。

 

 

 

 

 

- 產品功能適用性

該儀器適用于多種介質,半導體,薄膜濾光片和液晶等薄膜和涂層的厚度測量。

 

 

 

- 典型的薄膜材料為

SiO2、CaF2、MgF、光刻膠、多晶硅、非晶硅、SiNx、TiO2、聚酰亞胺、高分子膜。

 

 

 

- 典型的基底材料為

SiGe、GaAs、ZnS、ZnSe、鋁丙烯酸、藍寶石、玻璃、聚碳酸酯、聚合物、石英。

 

儀器具有開放性,儀器的光纖探頭可很方便地取出,通過儀器附帶的光纖適配器(如圖所示)連接到帶C-mount適用于微區(>10μm,與顯微鏡放大率有關)薄膜厚度的顯微鏡(顯微鏡需另配),就可以使本測量儀測量。

 


基本配置及參數

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