首頁>>北京瑞科中儀科技有限公司>>產品展示>>其他品牌
國產顯微鏡攝像頭——科研級數(shù)字相機 參考價：面議
國產顯微鏡攝像頭——科研級數(shù)字相機朗研顯微鏡攝像頭VTX12/VTX20，屬于科研級數(shù)字相機，即使在低放大倍率下，VTX12/VTX20攝像頭也能實現(xiàn) 高幀頻和...
結合橢偏反射 參考價：面議
結合橢偏反射性能優(yōu)異的多角度手動角度計和角度精度*的激光橢偏儀允許測量單層薄膜和層疊膜的折射率、消光系數(shù)和膜厚。
多角度激光橢偏儀 參考價：面議
多角度激光橢偏儀性能優(yōu)異的多角度手動角度計和角度精度*的激光橢偏儀允許測量單層薄膜和層疊膜的折射率、消光系數(shù)和膜厚。
自動光譜橢偏儀SENDURO® 參考價：面議
自動光譜橢偏儀SENDURO®所有的全自動光譜橢偏免除了用戶根據(jù)高度和傾斜度手動地對準樣品的麻煩，這對于高精度和可重復的光譜橢偏是必要的。
紅外光譜橢偏儀SENDIRA 參考價：面議
紅外光譜橢偏儀SENDIRA利用紅外光譜中分子振動模的吸收帶，可以分析薄膜的組成。此外，載流子濃度可以用傅立葉紅外光譜儀FTIR測量。
低成本高效益的光譜橢偏儀SENpro 參考價：面議
低成本高效益的光譜橢偏儀SENpro覆蓋寬的光譜范圍，從190 nm(深紫外)到3500 nm(近紅外)。傅立葉紅外光譜儀FTIR提供了高光譜分辨率用以分析厚度...
PECVD等離子沉積設備DEPOLAB 200 參考價：面議
PECVD等離子沉積設備DEPOLAB 200根據(jù)其模塊化設計，PECVD Depolab 200可升級為更大的真空泵組，低頻射頻源和更多的氣路。
帶預真空室的化學氣相沉積設備SI 500 PPD 參考價：面議
帶預真空室的化學氣相沉積設備SI 500 PPD的特色是預真空室和干泵裝置，用于無油、高產量和潔凈的化學氣相沉積過程。
等離子沉積設備SI 500 D 參考價：面議
等離子沉積設備SI 500 D低刻蝕速率，高擊穿電壓，低應力、不損傷襯底以及在低于100°C的沉積溫度下的低界面態(tài)密度，使得所沉積的薄膜具有優(yōu)異的性能...
RIE等離子刻蝕機SI 591 參考價：面議
RIE等離子刻蝕機SI 591：預真空室和計算機控制的等離子體刻蝕工藝條件，使得SI 591 具有優(yōu)異的工藝再現(xiàn)性和等離子體蝕刻工藝靈活性。靈活性、模塊性和占地...
等離子刻蝕機 參考價：面議
RIE Etchlab 200等離子刻蝕機根據(jù)其模塊化設計，等離子蝕刻機Etchlab 200可升級為更大的真空泵組，預真空室和更多的氣路。
等離子刻蝕機 參考價：面議
等離子刻蝕機由于離子能量低，離子能量分布帶寬窄，因此可以用我們的等離子體刻蝕機SI 500進行低損傷刻蝕和納米結構的刻蝕。
熱分析-紅外-氣質聯(lián)用系統(tǒng) 參考價：面議
熱分析-紅外-氣質聯(lián)用系統(tǒng)介紹：珀金埃爾默提供完善的產品和技術服務，可將不同產品聯(lián)合使用，充分利用各個 儀器的優(yōu)勢，產生協(xié)同效應，達到單次試驗獲得多個結果的目的...
紅外成像系統(tǒng) 參考價：面議
紅外成像系統(tǒng)介紹：Spotlight400/400NFT-IR紅外光譜化學成像系統(tǒng)以高效率享譽業(yè)界的實驗室傅里葉變換紅外光譜化學成像系統(tǒng)，在廣泛的行業(yè)里顯著地提...
三重四級桿液相色譜質譜聯(lián)用儀 參考價：面議
QSight三重四級桿液相色譜質譜聯(lián)用儀介紹：QSightTM三重四極桿液質聯(lián)用儀具有層流質譜技術和加熱誘導脫溶劑技術（HSIDTM），性能穩(wěn)定抗污染，非常適用...
氣相色譜儀 參考價：面議
Clarus氣相色譜儀介紹：作為珀金埃爾默多種多樣的氣相色譜系列產品的基礎，Clarus®690/590氣相色譜儀代表了行業(yè)內先進的技術革新。擁有配置...
全自動熱脫附儀 參考價：面議
urboMatrix全自動熱脫附儀介紹：作為熱脫附（TD）技術的行業(yè)，珀金埃爾默除了可提供五種不同的配置儀器，還可以提供在線VOC分析的全套設備，還可以在采集前...
全自動頂空進樣器 參考價：面議
全自動頂空進樣器介紹：TurboMatrix頂空和帶捕集阱頂空自動進樣器TurboMatrix頂空和捕集阱頂空能夠提供的精度、靈敏度和分析效率。是尋求快速樣品處...
氣相色譜/質譜聯(lián)用儀 參考價：面議
氣相色譜/質譜聯(lián)用儀介紹：珀金埃爾默推出的GCMS 2400™ System，為各種類型和規(guī)模的實驗室提供了兼具優(yōu)異靈敏度和穩(wěn)定性的先 進工具。
蔡司共聚焦顯微鏡 參考價：面議
蔡司共聚焦顯微鏡的多功能 Smartproof 5 快速轉盤共聚焦顯微鏡是用于表面分析的集成系統(tǒng)：快速，精確，可重復。可用于各種工業(yè)應用——比如粗糙度分析和地形...
化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議
化學氣相沉積系統(tǒng)PECVD沉積設備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內進行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的標準的化學氣相沉積工藝。
深硅刻蝕 參考價：面議
進口深硅刻蝕：三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合...
沉積系統(tǒng) 參考價：面議
三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設備，以滿足研發(fā)的要求。樣品可以通過預真空室和/或...
刻蝕系統(tǒng) 參考價：面議
刻蝕系統(tǒng)三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設備，以滿足研發(fā)的要求。樣品可以通過預真空...
3