高精度控溫系統主要用于控制反應器和反應器的溫度，特別適用于反應過程中需要加熱放熱過程的控制。釜內物料溫度可精確、線性控制，可選擇程序控制模式，也可設定傳熱介質與物料的溫差。
高精度控溫系統采用全封閉管道設計，高效板式換熱器，整個系統在高溫下不會產生油霧，在低溫下不會吸水。系統中有一個膨脹罐，用于冷卻和加熱過程。導熱介質受熱膨脹，受冷收縮。具有控制顯示屏，可清晰顯示各種溫度（物料溫度點\溫控系統出口溫度\入口溫度）實時在線控制狀態，記錄的溫度曲線數據可自動存儲，支持U盤等數據導出（使用不能改變數據內容的存儲格式）或數據在線打印功能。整套設備采用不銹鋼外包；全封閉液體循環系統。系統內有膨脹容器，膨脹容器與液體循環系統絕緣。無論循環液溫度高低，膨脹容器內的介質都保持室溫。高溫不產生油霧，不易氧化，低溫不吸收空氣中的水分。
1、高精度溫度采集電路：創新性地采用比例法和勵磁換向技術，系統溫度分辨率可達0.001℃，檢測精度可達±0.01℃。
2、大功率高可靠性半導體制冷驅動：采用H橋電路切換半導體制冷膜的加熱和冷卻模式，解決了無死區保護和低功率問題驅動電路類型；該設計引入了濾波和保護電路，大大提高了半導體制冷片的壽命和驅動電路的可靠性。
3、雙向多模式控溫：控溫策略充分考慮了半導體制冷薄膜的加熱和冷卻輸出功率差異、功率隨溫度變化、系統加熱的隨機性等因素和冷卻模式切換。它結合了單點和掃描，高低溫分段處理，隨環境溫度變化動態調節等多種溫控調節方式。
高精度控溫系統不僅提高了溫控質量，而且實現了溫度自動報警、參數制表、數據打印、數據歸檔等功能，有效提高了晶體生產的技術和管理水平。
