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全自動金相研磨拋光機VISPOL LabAuto

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更新時間:2022-01-12 13:09:22瀏覽次數(shù):754

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)地類別 進口 尺寸(L*W*D) 580*920*750mm
價格區(qū)間 面議 磨盤尺寸 200/250/300mmmm
磨盤個數(shù) 單盤個 應用領域 化工,地礦,建材/家具,電子/電池,道路/軌道/船舶
轉速 底盤50-600rpmrpm
全自動金相研磨拋光機VISPOL LabAuto為采用氣壓控制供給壓力, 具備單軸獨立加壓系統(tǒng)及中心整體加壓系統(tǒng)的雙模式自動磨拋機, 通過更換夾具可實現(xiàn)對各種形狀及尺寸的試樣進行制備,采用獨立加壓時可以實現(xiàn)對每一個試樣供給恒定的壓力,使制樣達到*佳的效果, 并帶有條件記憶模塊, 可以將磨拋過程程序化, 是磨拋機中的*佳選擇。

詳細介紹


全自動金相研磨拋光機VISPOL LabAuto為采用氣壓控制供給壓力, 具備單軸獨立加壓系統(tǒng)及中心整體加壓系統(tǒng)的雙模式自動磨拋機, 通過更換夾具可實現(xiàn)對各種形狀及尺寸的試樣進行制備,采用獨立加壓時可以實現(xiàn)對每一個試樣供給恒定的壓力,使制樣達到*佳的效果, 并帶有條件記憶模塊, 可以將磨拋過程程序化, 是磨拋機中的*佳選擇。

產(chǎn)品特點
1.多彩觸控屏幕操作, 可記憶操作條件(時間, 轉速)

2.支持磁性快速換盤系統(tǒng)

3.氣動加載

4.轉向可調(diào)

5.工作底盤有多種尺寸選擇

6.可更換夾具以適應不同工件

7.超大型支撐底座確保操作時的平衡性

8.防漏及自動清洗設計確保機器的使用壽性, 軸承保用5 年以上

9.有Z 軸定量磨削機型可選擇


應用領域
全自動金相研磨拋光機VISPOL LabAuto適用于對金相試樣的粗磨、精磨、粗拋光至精拋光過程進行自動制樣工廠、科研單位以及大專院校實驗室的理想制樣設備。
產(chǎn)品結構設計
具有*穩(wěn)定性樣品制備系統(tǒng)

本機為采用氣壓控制供給壓力, 具備單軸獨立加壓系統(tǒng)及中心整體加壓系統(tǒng)的雙模式自動磨拋機, 通過更換夾具可實現(xiàn)對各種形狀及尺寸的試樣進行制備,采用獨立加壓時可以實現(xiàn)對每一個試樣供給恒定的壓力,使制樣達到*佳的效果, 并帶有條件記憶模塊, 可以將磨拋過程程序化, 是磨拋機中的*佳選擇。

效率、節(jié)省成本,細微之處,方見品質(zhì)!



整機結果緊湊,耐用性好
底座采用鑄鋁整體設計,堅固耐用,外殼采用FRP纖維增強復合材料設計,具有高強度,耐腐蝕優(yōu)點。

系統(tǒng)配置靈活性,根據(jù)制備產(chǎn)能及應用可選擇不同配置
針對不同客戶,多種系統(tǒng)配置可選擇

磨盤直徑:200mm 250mm 300mm

夾具形式:單點力中心力

制備數(shù)量:3 個5 個

樣品尺寸:20mm 25mm 30mm 32mm 40mm定量磨削



關于研磨與拋光
MD 系統(tǒng)介紹
                   

對于微觀檢驗來說,機械制備是材料微觀結構分析試樣的常用的制備方法,它采用粒徑連續(xù)變細的磨料將材料從試樣表面去除,直到獲得要求的制備結果。

如維翰制備原理所述,試樣既可制備至*美表面和真實結構,也可在試樣表面滿足特定檢驗目的時停止制備。分析或檢驗的類型決定了制備表面的具體要求。不管我們的目標是什么,制備作業(yè)必須以一種系統(tǒng)、可再現(xiàn)的方式進行,以*底成本保證*佳制備結果。過程定義機械制備可分為兩個操作過程:研磨與拋光。維翰開發(fā)的機械制備系列設備在業(yè)內(nèi)***指。我們可提供大量研磨和拋光設備,滿足用戶在制備能力、制備質(zhì)量及再現(xiàn)性等方面的各種需求。

自動化是實現(xiàn)制備再現(xiàn)性和高質(zhì)量制備的先決條件。上海維翰光電科技與易耗品的組合,是以平均每個試樣的*低成本獲得**質(zhì)制備結果的*佳保障。


研磨
機械式材料去除的首頁步驟被稱為研磨。適當研磨可去除受損或變形的表面材料,并將新變形的數(shù)量控制在有限范圍內(nèi)。研磨的目的是:獲得平整的表面,將損傷降到*低程度,并可在拋光過程中以最短的時間**去除這些損傷。研磨可劃分為兩個獨立的過程。

1. 粗磨,PG 2. 精磨,F(xiàn)G

維翰新型SinDia 研磨盤將碳化硅研磨紙的典型研磨過程減少到兩個步驟,從而縮短了總制備時間,且制備質(zhì)量相比碳化硅研磨紙得到了大幅提升。因此,SinDia 新型研磨盤在價格和性能上均優(yōu)于碳化硅研磨紙。

*一步研磨通常被稱為粗磨,粗磨可保證所有試樣均獲得類似的表面,不管其初始狀況及前期處理如何。另外,當試樣座中有若干個試樣需要處理時,它們必須處于同一水準或平面,以利于試樣的進一步制備。精磨通常分多個步驟在粒度連續(xù)減小的碳化硅研磨紙上完成。精磨盤上涂敷了金剛石磨料,硬質(zhì)相和軟質(zhì)相材料均可獲得始終如一的材料去除率。軟質(zhì)相材料不會產(chǎn)生污斑,脆質(zhì)相材料不會產(chǎn)生碎屑,試樣可保持*美的平面度。后續(xù)拋光步驟可在最短時間內(nèi)完成。



拋光
與研磨一樣,拋光必須消除先前步驟中產(chǎn)生的損傷。分步拋光、連續(xù)減小磨料粒度可實現(xiàn)這一目標。拋光可分為兩個不同的過程。

1. 金剛石拋光,DP

2. 氧化物拋光,OP

用金剛石作為拋光磨料,可以很快的速度去除材料并獲得*佳平面度。現(xiàn)有的其他材料均不可能獲得類似結果。金剛石的高硬度幫助您輕松切穿所有材料和位相。某些材料,尤其是軟質(zhì)和韌性材料,需要通過終拋光來獲得*佳制備質(zhì)量。此時可采用氧化物拋光法。膠態(tài)氧化硅的晶粒度約為0.05um,pH 值約為9.8,可為您呈現(xiàn)異的制備結果。

易耗品拋光布、金剛石晶粒度及潤滑劑的選擇取決于需要拋光的材料類型。最初的拋光步驟通常在低彈力拋光布上完成,軟質(zhì)材料需使用低粘度潤滑劑。終拋光時,需采用彈力較高的拋光布和粘度較高的潤滑劑。



技術參數(shù)規(guī)格

研磨拋光過程圖解

怎樣過程中,下一程序遺留下來的變形層的同時,自己也會引入新的變形層,如何有效的選擇每一程序過程中涉及的設備和耗材,對于顯微樣品的制備效率和結果至關重要。


金相耗材
根據(jù)不同的材料,必須選擇對應的研磨拋光耗材,否則達不到理想中的效果,維翰具有多種金相耗材可供選擇,滿足不同的材料拋光需求。金相砂紙,金剛石研磨盤,金剛石懸浮液,拋光潤滑液,硅膠懸浮液等耗材。

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