目錄:科睿設(shè)備有限公司>>光刻機(jī),勻膠機(jī)>> SNR負(fù)性光刻膠 (SU-8)-光刻機(jī)用
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更新時(shí)間:2024-12-10 11:01:08瀏覽次數(shù):1530評(píng)價(jià)
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供貨周期 | 一個(gè)月 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子 |
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主要用途 | 光刻工藝用的化學(xué)品 |
負(fù)性光刻膠 (SU-8)-光刻機(jī)用
SNR負(fù)性光刻膠,針對(duì)微機(jī)械加工微電子應(yīng)用,高對(duì)比度,環(huán)氧樹脂類負(fù)性光刻膠。
具有垂直側(cè)壁的高縱橫比成像
近紫外(350-400nm)處理
單旋涂膜厚度為1.5至200µm
高度耐化學(xué)性和耐溫度性
與已建立的SU-8光刻工藝兼容
微機(jī)械加工微電子應(yīng)用
高對(duì)比度環(huán)氧樹脂負(fù)片光刻膠
具有垂直側(cè)壁的高縱橫比成像
近紫外(350, 400nm)處理
單層旋涂膜厚度為0.5至200µm
高度耐化學(xué)性和耐溫度性
兼容既定的SU8光刻工藝
負(fù)性光刻膠 (SU-8)-光刻機(jī)用
ENPR Series | Viscosity (cP) | Thickness (um) | Exposure Energy (mJ/?) |
C5 | 53 | 4 - 8 | 100 - 120 |
C7 | 165 | 6 - 13 | 110 - 125 |
C10 | 455 | 9 - 21 | 120 - 140 |
C15 | 1500 | 13 - 46 | 125 - 180 |
C25 | 5490 | 18 - 70 | 135 - 200 |
C50 | 15900 | 40 - 155 | 165 - 295 |
C75 | 27200 | 60 - 240 | 190 - 360 |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)