真空快速退火爐-材料設(shè)備

真空快速退火爐-材料設(shè)備（RTP）一般都是以紅外鹵素?zé)魹榘l(fā)熱元件，升溫速度極快，采用熱電偶測溫并采用國際*的PID控制，具有很高的控溫精度，快速退火爐具有真空裝置，可在多種氣氛下工作。大大提高了其使用范圍。


儀器規(guī)格：
加熱方式：紅外鹵素鎢燈；
最大樣品尺寸： 2--6寸，單片；
最高溫度： 1200度；
工作氣體：最多3路氣體（MFC控制），可通入氧氣，氮?dú)饧岸栊詺怏w；
極限真空：5e-3torr；
真空泵：機(jī)械泵（可選配分子泵，干泵）；
工藝控制：手動(dòng)工藝控制；
循環(huán)水冷卻，提高降溫速度；
結(jié)構(gòu)緊湊，經(jīng)濟(jì)實(shí)惠。


應(yīng)用：
快速熱升溫工藝（熱退火）；
薄柵氧化（納米器件)；
低熔點(diǎn)壓焊（反應(yīng)金屬壓焊）；
硅化物構(gòu)造；
硅化物界點(diǎn)構(gòu)造等。