| 應用領域 | 電子/電池,電氣,綜合 |
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離子束刻蝕設備
儀器應用：
離子拋光
離子清洗
等離子體灰化
等離子體氧化、氮化
表面改性
反應刻蝕
生物醫藥
傳感器
離子束刻蝕設備技術參數：
1，真空系統：
尺寸： 72英寸X 50英寸
真空泵：分子泵+機械泵
本底真空：1X10E-7Torr
2， 樣品臺：
樣品大小：150mm
處理角度：0-180度
旋轉速度：0-20RPM
冷卻：水冷
3， 離子源
孔徑：22厘米
柵格：2個，鉬材質
激發：RF射頻
電性中和：PBN
束流： 200-1000V， 0-1000mA
工作氣體：Ar,Xe,N2,O2,CF4,SF6,CH4,C2H6
SIMS終點監測
主要特點：
RF or DC 離子源， 8-22厘米Gridded Kaufman離子源
單片樣品傳輸腔
高效率高產量，低能量等離子體源
最大直徑至150毫米樣品表面處理
<3% 非均勻性
水冷，傾斜，旋轉
操作簡便，小型設備，皮實耐用
SIMS終點監測
全部電腦操作
反應離子刻蝕
單片樣品臺/三片行星式旋轉樣品臺
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