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| 價格區間 | 20萬-50萬 |
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產品簡介
詳細介紹
X熒光膜厚儀技術參數
長期工作穩定性高，故障率低。
多變量非線性回收程序
相互獨立的基體效應校正模型
元素分析范圍從硫（S）到鈾（U）中間的任意金屬鍍層（鍍金、鍍錫、鍍鋅等）
一次可同時分析多達五層鍍層，快速、準確。
薄可測試0.005μm
分析含量一般為2ppm到99.9%
鍍層厚度一般在50μm以內（每種材料有所不同）
任意多個可選擇的分析和識別模型
度適應范圍為15℃至30℃
電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩壓電源
儀器尺寸：576（W） x 495 （D） x 545（H） mm
重量：90 kg
X熒光膜厚儀性能優勢
鼠標可控制移動平臺，鼠標點擊的位置就是被測點
高分辨率探頭使分析結果更加精準
良好的射線屏蔽作用
測試口高度敏感性傳感器保護
滿足各種不同厚度樣品以及不規則表面樣品的測試需求
小φ0.1mm的小孔準直器可以滿足微小測試點的需求
高精度移動平臺可定位測試點，重復定位精度小于0.005mm
采用高度定位激光，可自動定位測試高度
定位激光確定定位光斑，確保測試點與光斑對齊
X熒光膜厚儀檢測實例
銅鍍鎳樣品
X熒光膜厚儀測試譜圖
樣 品 名 | 成分Ni(%) | 鍍層Ni(um) |
吊扣 | 100 | 19.321 |
吊扣2# | 100 | 19.665 |
吊扣3# | 100 | 18.846 |
吊扣4# | 100 | 19.302 |
吊扣5# | 100 | 18.971 |
吊扣6# | 100 | 19.031 |
吊扣7# | 100 | 19.146 |
平均值 | 100 | 19.18314 |
標準偏差 | 0 | 0.273409 |
相對標準偏差 | 0 | 1.425257 |