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半導體膜厚測試儀-OPTM 

R&D ！ QC ！ 植入設備！ 都可簡單實現高精度測量！

測量目標膜的絕對反射率，實現高精度膜厚和光學常數測試！ （分光干渉法）

半導體膜厚測試儀特 長　Features

·膜厚測量中必要的功能集中于頭部

·通過顯微分光高精度測量絕對反射率（多層膜厚、光學常數）

·1點只需不到1秒的高速tact

·實現了顯微下廣測量波長范圍的光學系（紫外～近紅外）

·通過區域傳感器控制的安全構造

·搭載可私人定制測量順序的強大功能

·即便是沒有經驗的人也可輕松解析光學常數

·各種私人定制對應（固定平臺，有嵌入式測試頭式樣）

測量項目　Measurement item

·絕對反射率測量

·膜厚解析

·光學常數解析（n：折射率、ｋ：消光系數）

構成圖

式 樣Specifications

※ 上述式樣是帶有自動XY平臺。

※ release 時期 是OP-A1在2016年6月末、OP-A2、OP-A3預定2016年9月。

＊ 膜厚范圍是SiO2換算。