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流速的影響 (ODP2 HP)
使用聚合物反相柱ODP2 HP 4D (4.6 mm I.D. x 150 mm L)時流速與理論塔板數(shù)的關系以及流速與保留時間的關系如下。每種樣品均顯示為流速0.3 mL/min時理論塔板數(shù)最高，當流速低于0.3mL/min時由于樣品擴散柱效降低。另外，流速低于0.5 mL/min時各樣品的保留時間長。因此使用ODP2 HP-4D時推薦標準使用流速為0.5 – 1.0 mL/min。 ODP2 HP-2D (2 mm I.D. x 150 mm L)的標準使用流速為0.1 – 0.2 mL/min。
Sample : 5 μL
Phenol 300 ppm
Methyl bezoate 350 ppm
Toluene 1000 ppm
* Ratio of TPN [%] : TPN at a flow rate of 0.5mL/min is set as 100%.
Sample : 5 μL
Phenol 300 ppm
Methyl bezoate 350 ppm
Toluene 1000 ppm
* Ratio of TPN [%] : TPN at a flow rate of 0.5mL/min is set as 100%.
Column : Shodex ODP2 HP-4D (4.6 mm I.D. x 150 mm)
Eluent : H2O/CH3CN=55/45
Detector : UV (254 nm)
Column temp. : 40 ℃