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射頻磁控濺射鍍膜裝置 型號:ZH5493
參考價: 面議
具體成交價以合同協議為準
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訪問次數:856更新時間:2024-11-23 08:00:04

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產品簡介
主要由濺射鍍膜室、真空抽氣系統、氣源進氣調節系統、襯底加熱溫度控制系統、射頻電源等部分組成。
產品介紹

射頻磁控濺射鍍膜裝置 型號:ZH5493
 
貨號:ZH5493

  主要由濺射鍍膜室、真空抽氣系統、氣源進氣調節系統、襯底加熱溫度控制系統、射頻電源等部分組成。由于磁控濺射能夠地控制參數和提高膜層附著力、密度及均勻性,已成為沉積薄膜的重要方法,射頻磁控濺射具有沉積速率高,可以濺射材料,包表面粗糙度樣板 括導體、半導體和介質材料等特點。由于在低氣壓下濺射,因此膜層致密、針孔少、度高。
可開設的實驗
1、掌握射頻磁控濺射法制膜的基本原理;
2、了解磁控濺射鍍膜儀的操作過程及使用范圍;
3、磁控濺射法制備金屬膜、半導體膜、化合物膜、介質膜等薄膜。
主要參數
1、濺射鍍膜室:由不銹鋼底與玻璃鐘罩組成;尺寸:Φ220×H230mm3;
2、濺射鍍膜室本底真空:≤1Pa;濺射腔限真空:6×10-1Pa;
3、濺射靶:Φ50燒結車掃描測溫云臺mm,濺射靶臺和濺射靶可調距離:20~60mm;
4、基片加熱溫度可控范圍:室溫~300℃;
5、射頻源功率:500W,13.56MHz;
6、氣路系統:由兩路轉子流量計控制(可選配流量計);
7、真空系統:2XZ-4型旋片真空泵,抽氣速率:4L/S,單相220V交流電源供電;
8、對過流過壓、斷路等異常情況進行報警,并執行相應保護措施;
9、供電電源:AC220V,50Hz,整機功率2KW。
www.ghitest.com


 



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