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HZP-150全溫培養振蕩器HZP150
特點:工作室配置雙層通用振蕩平臺,又可改為單層滿足大規格三角燒瓶高度.
工作室為雙層
通用振蕩平臺，也可改變單層，滿足大三角燒瓶的需要。
振蕩器件：Surge fittings:
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HZP-150全溫培養振蕩器技術參數.
| 品名 | 恒溫溫培養振蕩器 | 全溫培養振蕩器 | ||
| 型號 | ZDP-150 | ZDP-250 | HZP-150 | HZP-250 |
| 電源電壓 | 220V. 50Hz | |||
| 旋轉頻率 | 30~280rpm | |||
| 擺振幅度 | φ 28mm | |||
| 擺板尺寸 | 370×370mm×2層 | 440×440mm ×2層 | 370×370mm ×2層 | 440×440mm×2層 |
| 標準配置 | 100ml×6個 | 150ml×6個 | 100ml×6個 | 150ml×6個 |
| 150ml×6個 | 250ml×6個 | 150ml×6個 | 250ml×6個 | |
| 250ml×6個 | 500ml× 6個 | 250ml ×6個 | 500ml×6個 | |
| 容量 | 100ml×28個或250ml×28個或500ml×9個或1000ml×5個 | 100ml×44個或250ml ×44個或500ml×14個或1000ml×9個 | 100ML*28個或250ML*28個或500ML*9個或 | 100ml×44個或250ml×44個或500ml×14個或1000ml×9個 |
| 1000ML ×5個 | ||||
| 控溫范圍 | RT+5~50 ℃ | 5~50 ℃ | ||
| 控溫精度 | ± 0.1 ℃ | |||
| 溫度波動 | ± 0.5 ℃ | |||
| 消耗功率 | 500W | 580W | 700W | 900W |
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