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光譜儀使用之后如何有效清洗
閱讀：1610 發布時間：2022-10-20
ICP的基本結構包括：等離子體光源、進樣系統、氣體控制系統、光學系統、檢測器和數據處理系統，每一部分又包括著不同的部件，如進樣系統里的矩管、霧化器和霧室等。
光譜儀在使用之后應該如何有效清洗配件結構？
進樣系統的清洗
1矩管的清洗
(1)鹽分沉積——將矩管倒扣，放入裝有1：1硝酸的燒杯中浸泡24小時，以除去矩管上的積鹽；
(2)金屬沉積——卸下石英矩管，將噴嘴進入熱酸中(稀王水、硝酸或鹽酸)中；
(3)碳沉積——將矩管放入750℃馬弗爐中，打開馬弗爐幾秒鐘，讓空氣進入，再次將溫度升至750℃。重復幾次以清除碳沉積，待馬弗爐冷卻后，再將石英矩管取出。清洗后，使用去離子水沖洗，吹干。
2霧室和霧化器的清洗
(1)玻璃混合霧化室的清洗
如果霧化室壁上有掛水珠，這些大液滴排出時，會引起霧化室內壓力變化從而導致樣品霧化效率降低。因此，可以拆除霧室，浸泡于10%左右的稀硝酸中，保持低溫微沸煮半小時以上，再用去離子水清洗，吹干。
(2)霧化器堵塞的去除
①將進樣管拆除，霧化器噴嘴朝上輕輕敲擊以使顆粒物松散，并在重力作用下排出；
②在噴嘴處接入壓縮空氣(15~30psig)“反吹”噴嘴和環面，用手指堵住進樣口和載氣口，然后突然釋放進樣口以清除毛細管顆粒堵塞，或突然釋放載氣口以清除載氣顆粒堵塞；
③在噴嘴處反向通入異丙醇，使顆粒物流出；
④氣路中可能有PTEE碎屑時，將霧化器噴嘴浸到熱水中，并在側壁加壓，熱水使聚合物分散并從噴嘴排出；
⑤對于硅類顆粒堵塞，可使用3%~5%氫氟酸清洗，吸取清洗液5~10秒后，立即用大量清水沖洗，重復3~5次。注意：氫氟酸有毒性，使用時應戴好手套，做好防護措施，氫氟酸清洗的時間和濃度要準確控制，清洗后應*清除氫氟酸并使霧化器干燥，以防止氫氟酸對噴嘴處毛細管的腐蝕。
⑤切勿使用超聲波清洗霧化器，因為毛細管中會有共振，碰到噴嘴的內壁會使毛細管口破裂，霧化器性能大大降低。
循環冷卻水機清洗
冷卻水的溫度設置一般要比室溫低5℃，每小時的溫度變化不超過0.2℃，至少每半年進行一次清洗，清洗步驟如下：
①從儀器回流到冷水機的進水端處卸下管子；
②旋開排水口閥門，排凈水箱中的水；
③在水箱中加入去離子水至水箱綠色和黃色刻線中間；
④旋上排水口閥門，接好進水端管子，打開電源，清洗系統。