一、V2MS17-真空氧化爐基本原理與特點
1. 基本原理
真空硅鉬棒爐為氣體保護多用途爐，可滿足在還原氣體或成型氣體氣氛中對藍寶石退火，還原、燒結和表面處理等工藝需要，廣泛應用于航空航天、金屬材料、粉末冶金、陶瓷產品、半導體器件、厚膜電路、磁性材料等領域。
2.設備特點
1）具備完善的報警功能，更的安全連鎖保護系統；
2）完善的氣氛控制系統，滿足各種工藝需要；
3）高性能優質電氣元件保證設備長期運行的穩定可靠性；
4）低負荷加熱器，可有效提高設備的使用壽命。
二、V2MS17-真空氧化爐主要技術參數
編號 | V2MS17 |
產品型號 | VHSms-20/20/30-1700 |
最高設計溫度（ ℃ ） | 1700 |
加熱元件 | 硅鉬棒 |
加熱功率（kW） | 12 |
冷態極限真空度（ Pa ） | 6.7x10-2Pa（空爐、冷態、經凈化） |
測溫元件 | 鎢錸熱電偶 |
升溫速率 | 1~10℃/min |
溫度均勻性 | ±5℃（5點測溫，恒溫區1000℃保溫1h后檢測） |
爐膛尺寸（mm） | 200x200x300（WxHxD） |
可充氣氛 | 氮氣/氬氣一路 |
設備外形尺寸（ mm ） | 1425x1550x1850mm(DxWxH) |
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