電子級CVD金剛石膜片（基底材料）
電子級CVD金剛石膜片（基底材料）不僅強度高，透明度高，而且熱傳導性好，且成本較天然金剛石低，能夠制備各種幾何形狀，理論上對尺寸是沒有限制的，在電子、光學、機械等工業領域有廣泛的應用前景。
CVD金剛石合成方法的顯著進展使得在常規基礎上制備適合于輻射探測的金剛石成為可能。CVD方法的不斷改進，未來可期大面積同質外延生長的單晶金剛石平板/薄膜。CVD金剛石具有廣闊的應用前景，如射頻二極管、雙極結型晶體管、場效應晶體管、微機電系統和電子工業等。不斷的創新和不懈的努力為放射治療劑量計等醫學領域指明了方向。
產品參數：
Lateral Tolerance : | +0.2/-0 mm |
Crystallographic Orientation (Miscut) : | +/-3° |
Face Orientation : | {100} faces |
Crystallography : | Typically 100% single sector {100} |
Edges : | Laser Cut |
Laser Kerf : | 3° |
Edge Orientation : | <110> edges |
Side Roughness Ra : | polished, Ra < 5 nm on {100} face |
Thickness Tolerance : | +/- 0.05 mm |
硼含量 | <1 ppb |
ChargeCollection Efficiency (CCE) : | Typically >95% |
Charge Collection Distance (CCD) : | Typically >475µm, @0.5 V µ/m applied field, for 500 µm plate |
Nitrogen Concentration : | < 5 ppb |
產品選擇：
貨號 | 產品描述 | 尺寸（長*寬*厚） | 規格 |
| Electronic Grade CVD | 2.0*2.0mm*0.50mm | 片 |
| Electronic Grade CVD | 3.0*3.0mm*0.50mm | 片 |
| Electronic Grade CVD | 4.5*4.5mm*0.50mm | 片 |
| Electronic Grade CVD | 2.0*2.0mm*0.30mm | 片 |
| Electronic Grade CVD | 3.0*3.0mm*0.30mm | 片 |
| Electronic Grade CVD | 4.5*4.5mm*0.30mm | 片 |
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