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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | |||
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TC-20TC-Wafer校準(zhǔn)儀 簡(jiǎn)單介紹：TC-Wafer校準(zhǔn)儀是一款專注晶圓溫場(chǎng)均勻性測(cè)量的儀器，適配市場(chǎng)上大多數(shù)主流廠家生產(chǎn)的RTP設(shè)備。 產(chǎn)品型號(hào)：TC-20 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2024-05-31 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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RTP-3S01RTP-3系列快速退火爐 簡(jiǎn)單介紹：RTP-3系列快速退火爐，采用紅外輻射加熱及冷壁技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)實(shí)驗(yàn)材料的快速升溫和降溫 產(chǎn)品型號(hào)：RTP-3S01 所在地：武漢市 更新時(shí)間：2024-05-30 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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AS-OneAS真空快速退火爐 簡(jiǎn)單介紹：AS真空快速退火爐，性能ZYUE，可搭配分子泵實(shí)現(xiàn)高真空下熱處理工藝。Z高溫度1500 ℃，Z快升溫速率200℃/Second。全程PC軟件控制升溫程序，保證溫度不過(guò)沖，控溫精度準(zhǔn)確。 產(chǎn)品型號(hào)：AS-One 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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AS-Micro真空快速退火爐 簡(jiǎn)單介紹：AS-Micro真空快速退火爐，性能，可搭配分子泵實(shí)現(xiàn)高真空下熱處理工藝。zui高溫度1250 ℃，zui快升溫速率250℃/Second。全程PC軟件控制升溫程序，保證溫度不過(guò)沖，控溫精度準(zhǔn)確。 產(chǎn)品型號(hào)：AS-Micro 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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Solaris 150UV快速退火爐 簡(jiǎn)單介紹：美國(guó)RTP系列的快速退火爐溫度均勻度≤1%，處理的大尺寸可以達(dá)到200mm，溫度可以達(dá)到1200攝氏度，處理過(guò)程可以在真空環(huán)境或者惰性氣體的環(huán)境中執(zhí)行，做多可支持4~6路進(jìn)氣，可以用到的氣體包含N2，O2，N2H2，Ar和H2。 產(chǎn)品型號(hào)：Solaris 150UV 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
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Solaris Eclipse快速退火爐系統(tǒng)SS 簡(jiǎn)單介紹：快速退火爐系統(tǒng)SSI是一個(gè)簡(jiǎn)單穩(wěn)定的熱處理系統(tǒng)，適合于廣泛大尺寸為直徑2~8英寸的基片材料和結(jié)構(gòu)的快速熱低溫退火（RTA），（如電子級(jí)硅、鋼鐵、玻璃、單晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、鍺、超導(dǎo)體、陶瓷等等）。 產(chǎn)品型號(hào)：Solaris Eclipse 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
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Solaris 100 /150/200SSI快速退火爐 簡(jiǎn)單介紹：SSI快速退火爐系統(tǒng)是一個(gè)簡(jiǎn)單穩(wěn)定的熱處理系統(tǒng)，適合于廣泛大尺寸為直徑2~8英寸的基片材料和結(jié)構(gòu)的快速熱低溫退火（RTA），（如電子級(jí)硅、鋼鐵、玻璃、單晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、鍺、超導(dǎo)體、陶瓷等等）。 產(chǎn)品型號(hào)：Solaris 100 /150/200 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-17 |
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言 | ||
