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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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| 產品圖片 | 產品名稱 | |||
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MPEM-1600掩膜曝光光刻機Mask Aligner 簡單介紹：MYCRO*荷蘭光刻機（掩膜曝光光刻機Mask Aligner ），是的光刻系統，為半導體制造和科研領域提供品質優良穩定的全波段紫外光刻機系統，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。 產品型號：MPEM-1600 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
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MEMA-800光刻機Mask Aligner 簡單介紹：MYCRO*荷蘭光刻機（光刻機Mask Aligner），是的光刻系統，為半導體制造和科研領域提供品質優良穩定的全波段紫外光刻機系統，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。 產品型號：MEMA-800 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
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MMA16光刻機Aligner MMA 簡單介紹：MYCRO*荷蘭（光刻機Aligner MMA16），是的光刻系統，為半導體制造和科研領域提供品質優良穩定的全波段紫外光刻機系統，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域?？蛻羧缑绹娇蘸教旃尽w利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學、劍橋大學、斯坦福大學、倫敦 產品型號：MMA16 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
