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主要應用：1、重金屬總量分析
2、形態分析：區分不同價態的金屬離子
3、有機物分析：對苯二酸中4-羧基苯甲醛、聚苯乙烯中游離苯乙烯、果汁維生素產品中維生素測定
4、電鍍液、水、廢水、海水、鹽、高純化學試劑
5、陰離子測定：醋酸中的微量碘離子、環境中的氰根、硫化物、亞硝酸根、硝酸根。
產品簡介
詳細介紹
技術參數：
zui大輸出電流（mA）：±80
zui大輸出電位（V）：±12
電位范圍（V）：±5
電位掃速（V/s）：1mV/S…3V/S （分辨率 1 mV）；
1mV/S…35V/S （分辨率 10 mV）
電流測量： 10nA…10mA 七個范圍
標準測量模式：DP,NP，DC,SQW,AC1,AC2,CV,PSA，CCPSA，CVS，CPVS
控制方式：PC 機
電：MME, RDE（Au,Pt,Ultra Trace,Ag,GC）
模擬器：儀器硬件自檢
自動化：自動進樣、加標、沖洗等
主要特點：
循環伏安溶出分析（CVS）和循環脈沖伏安溶出分析（CPVS）是電鍍行業中廣泛應用的方法。許多鍍層技術，特別是電路板（PCBs）制造業，這個方法是生產控制的重要組成部分。添加劑的定量是通過其對槽液主成份沉積的影響而進行間接測定。由于測量是基于生產過程發生的電反應，所以可以直接測定添加劑的活性和效果。
各種類型添加劑的定量測定需要專門的校正技術：線性近似法（LAT）或修正線性近似法可測定光亮劑。稀釋滴定法（DT）可測定抑制劑。
這些分析使用結構簡單、性價比好的旋轉鉑盤電。在每次測定前，電需要進行電化學預處理，這已在方法中設置好、并*自動重復直測定值穩定。
采用CVS或CPVS可以準確測定添加劑的含量。
電鍍槽中添加劑的有效濃度以每升槽液中添加劑的毫升數來表示并打印出來。這意味著可以準確的調節添加劑濃度。保證了操作的連續性和無干擾。特別是分析結果的準確性使該方法為電鍍行業所接受。其他方法，如經典的候氏槽（Hull cell）法，僅能提供鍍層質量的評估而不能測定添加劑濃度。
可調用預置的方法，只需要調整少量參數，就可以開始測定。應用報告中配置的方法可用于電鍍業*列的企業的鍍液分析。可以上網下載Metrohm 應用報告（AB）和應用簡報（AN），其中有更深入的應用方法。
儀器介紹:
797 VA Computrace是*伏安測定工作站，通過USB接口與PC相連。由PC軟件控制測定，記錄測定數據并評估結果。結構合理的軟件，使得操作非常簡單。而且預先安裝Metrohm應用報告和應用簡報中所有方法。
單機完成伏安痕量分析及測定電鍍池中添加劑。
• 特的多功能電和設計的恒電位器，具有高的靈敏度
• 采用813型自動進樣器或766型自動進樣器可實現自動化
• 數據庫程序自動采集數據、生成報告
• 多達220個現成重要的分析方法
• 可根據要求按多種格式輸出結果
• 內置GLP指引模式、個人登錄權限和自動電測試。
• Windows模式的用戶界面，操作簡單
• USB接口與電腦連接