目錄:山東濟寧魯超超聲設備有限公司>>半導體電子設備>>濕法腐蝕清洗系統>> 濕法腐蝕清洗系統
主要特點：
成熟的模塊化工藝組合
可面向用戶工藝需要，定制化設計
已應用于20nm級別IC工藝線
針對LED生產線，提高整體解決方案
全自動清洗/手動清洗可選
整機防漏液設計
廣泛應用于Ic、MEMS、LED、PV、電力電子、半導體材料等行業
標準配置：
高純進口板材
高結晶工藝管道
高潔凈氣動閥門
防腐機械手
伺服電機驅動
人機對話界面，觸摸屏操作
標準工藝模塊
SC-I溶液腐蝕槽
SC-II溶液腐蝕槽
SC-III溶液腐蝕槽
QDR槽
循環清洗槽
超聲/兆聲清洗槽
可選模塊：
鼓氮
水溶超聲/水浴兆聲槽
槽內加熱/制冷循環
漏液檢測
水阻檢測
自動供液系統
自動配液系統
自動滅火系統（有機清洗）
ESD功能（有機清洗）
MES接口（可選）
12
化工儀器網